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半导体生产中常需要控制掺杂,以保证控制电阻率,三氯化磷(PCl3)是一种重要的掺杂剂。实验室要用黄磷(即白磷)与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3,装置如下图所示:(部分夹持装置略去)

??????? A???????????? B?????????? C????????????? D?????? E

已知黄磷与少量Cl2反应生成PCl3,与过量Cl2反应生成PCl5? PCl3遇水会强烈水解生成 H3PO3HC1。遇O2会生成POCl3,POCl3溶于PCl3,PCl3POCl3的熔沸点见下表:

物质

熔点/

沸点/

PCl3

-112

75.5

POCl3

2

105.3

 

请回答下列问题:

1A装置中制氯气的离子方程式为??????????????????????????????????

2B中所装试剂是??????????????????? ,

E中冷水的作用是 ??????????????????????????????????????????????????

F中碱石灰的作用是_____??????????????????????????????????????????????????

3)实验时,检査装置气密性后,先打开K3通入干燥的CO2,再迅速加入黄磷。通干燥CO2的作用是 ?????????????????

4粗产品中常含有POCl3PCl5等。加入黄磷加热除去PCl5.通过_____(填实验操作名称),即可得到较纯净的PCl3

5)通过下面方法可测定产品中PCl3的质量分数

迅速称取1.00g产品,加水反应后配成250 mL溶液;

取以上溶液25.00mL,向其中加入碘水,充分反应;

所得溶液中加入几滴淀粉溶液,0.1000 mol/LNa2S2O3,溶液滴定

重复操作,平均消耗Na2S2O3,溶液8.40mL

已知H3PO3+H2O+I2== H3PO4+2HII2+2Na2S2O3==2NaI+Na2S4O6,假设测定过程中没有其他反应。根据上述数据,该产品中PC13的质量分数为_______

 

【答案】

1MnO2+4H4+2Cl-Mn2++Cl2↑+2H2O

2)浓H2SO4;冷凝PCl3防止其挥发;吸收多余的氯气,防止空气中的H2O进入烧瓶和PCl3 反应

3)排尽装置中的空气,防止白磷自燃;

4)蒸馏(579.75%

【解析】

试题分析:

1)实验室制备氯气用二氧化锰和浓盐酸加热反应生成氯化锰、氯气和水,反应的离子方程式为MnO2+4H+2ClMn2++Cl2↑+2H2O

2)浓H2SO4作用是干燥氯气E中冷水冷凝PCl3防止其挥发;氯气有毒,污染空气,F碱石灰吸收多余氯气防止污染空气,防止空气中的水蒸气进入影响产品纯度,

3)由于PCl3O2会生成POCl3,遇水生成H3PO3HCl,通入一段时间的CO2可以排尽装置中的空气,防止生成的PCl3与空气中的O2和水反应;

4)依据物质的沸点数值不同,可以利用蒸馏的方法分离出三氯化磷

5H3PO3+H2O+I2=H3PO4+2HII2+2Na2S2O3=2NaI+Na2S4O6,依据化学方程式可知H3PO3物质的量和PCl3的物质的量相同

PCl3??? ~???? H3PO3??? ~???? I2

碘的物质的量为(10.00 mL× 0.1000 mol·L1×8.40mL×0.1000 mol·L1)×103

所以PCl3的质量分数为

79.75%。注意250 mL溶液取25.00mL,所以要乘以10

考点:考查本题考查物质组成与含量的测定、对实验原理理解。

 

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半导体生产中常需要控制掺杂,以保证控制电阻率,三氯化磷(PCl3)是一种重要的掺杂剂。实验室要用黄磷(白磷)与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3,装置如下图所示:(部分夹持装置略去)

 

已知黄磷与少量Cl2反应生成PCl3,与过量Cl2反应生成PCl5PCl3遇水会强烈水解生成H3PO3HCl,O2会生成POCl3,POCl3溶于PCl3PCl3POCl3的熔沸点见下表:

物质

熔点/

沸点/

PCl3

-112

75.5

POCl3

2

105.3

 

请回答下列问题:

(1)A装置中制氯气的离子方程式为             

(2)B中所装试剂是     ,E中冷水的作用是        ,F中碱石灰的作用是           

(3)实验时,检查装置气密性后,先打开K3通入干燥的CO2,再迅速加入黄磷。通入干燥CO2的作用是            。通过控制K1K2能除去AB装置中的空气,具体的方法是                    

(4)粗产品中常含有POCl3PCl5等。加入黄磷加热除去PCl5,通过     (填实验操作名称),即可得到较纯净的PCl3 

 

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半导体生产中常需要控制掺杂,以保证控制电阻率,三氯化磷(PCl3)是一种重要的掺杂剂。实验室要用黄磷(即白磷)与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3,装置如下图所示:(部分夹持装置略去)

已知黄磷与少量Cl2反应生成PCl3,与过量Cl2反应生成PCl5PCl3遇水会强烈水解生成H3PO3HCl;遇O2会生成POCl3POCl3溶于PCl3PCl3POCl3的熔沸点见下表:

请回答下列问题:

1A装置中制氯气的离子方程式为 ???

2B中所装试剂是????????? E中冷水的作用是 ? ????????? ? F中碱石灰的作用是??????

3)实验时,检查装置气密性后,先打开K3通入干燥的CO2,再迅速加入黄磷。通干燥CO2的作用是?? ???????????

4)粗产品中常含有POC13PCl5等。加入黄磷加热除去PCl5后.通过?????? (填实验操作名称),即可得到较纯净的PCl3

5)通过下面方法可测定产品中PCl3的质量分数

迅速称取100g产品,加水反应后配成250 mL溶液;

取以上溶液2500mL,向其中加入1000 mL 01000 mol/L碘水,充分反应;

所得溶液中加入几滴淀粉溶液,用01000 molLNa2S2O3,溶液滴定

重复操作,平均消耗Na2S2O3,溶液840ml

已知:?????????????????????????????????????????????????????????????????????? ,假设测定过程中没有其他反应。根据上述数据,该产品中PCl3的质量分数为??????????

 

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