精英家教网 > 高中化学 > 题目详情
下列有关硅材料的说法不正确的是(  )
A、传统的硅酸盐陶瓷主要是以粘土为原料经高温烧结而成B、SiO2可用于制造光导纤维C、普通玻璃是以纯碱、石灰石和石英为原料制成的D、盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
分析:A.陶瓷是以粘土为原料经高温烧结而成;
B.光导纤维的成分是二氧化硅;
C.普通玻璃的原料是纯碱、石灰石和石英;
D.盐酸与硅不反应.
解答:解:A.陶瓷是以粘土为主要原料经高温烧结而成,故A正确;
B.光导纤维的成分是二氧化硅,SiO2可用于制造光导纤维,故B正确;
C.根据玻璃的组成可知,制玻璃的原料主要是纯碱、石灰石和石英,故C正确;
D.盐酸与硅不反应,抛光单晶硅一般采用HF和HNO3的混合液,故D错误.
故选D.
点评:本题考查硅和二氧化硅的性质和用途,比较基础,侧重对基础知识的巩固,注意对基础知识的理解掌握.
练习册系列答案
相关习题

科目:高中化学 来源: 题型:

(2008?广东)硅单质及其化合物应用范围很广.请回答下列问题:
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅.三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式
SiHCl3+H2
 1357K 
.
 
Si+3HCl
SiHCl3+H2
 1357K 
.
 
Si+3HCl

②整个制备过程必须严格控制无水无氧.SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式
3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl
3SiHCl3+3H2O═H2SiO3+H2↑+3HCl
;H2还原SiHCl3过程中若混O2,可能引起的后果是
高温下,H2遇O2发生爆炸
高温下,H2遇O2发生爆炸

(2)下列有关硅材料的说法正确的是
ABCD
ABCD
(填字母).
A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水混
B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
C.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂的,其熔点很高
D.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃.取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,振荡.写出实验现象并给予解释
生成白色絮状沉淀,又刺激性气味的气体生成,SiO32-与NH4+发生双水解反应,SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3?H2O+H2SiO3
生成白色絮状沉淀,又刺激性气味的气体生成,SiO32-与NH4+发生双水解反应,SiO32-+2NH4++2H2O═2NH3?H2O+H2SiO3

查看答案和解析>>

科目:高中化学 来源: 题型:

华裔科学家高琨因“在光纤传输信息领域中的突破性成就”获得2009年诺贝尔物理学奖,下列有关硅材料的说法正确的是(  )
A、光纤的主要成分是高纯度的单质硅B、金刚砂的主要成分是二氧化硅C、28g硅含有6.02×1023个电子D、28Si、29Si、30Si是不同的核素

查看答案和解析>>

科目:高中化学 来源: 题型:

下列有关硅材料的说法正确的是(  )
A、光纤的主要成分是高纯度的单质硅B、普通玻璃的主要成分是SiO2C、28g硅含有6.02×1023个电子D、水玻璃可用于生产黏合剂和防火剂

查看答案和解析>>

科目:高中化学 来源: 题型:

硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:

(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式____________________________。

②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式_________________;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是_________________________。

(2)下列有关硅材料的说法正确的是__________________(填字母)。

A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥

B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承

C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维

D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高

E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,振荡。写出实验现象并给予解释_______________________________。

查看答案和解析>>

同步练习册答案