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    (8分) 三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它能发生如下反应：3NF3＋5H2O===2NO＋HNO3＋9HF。请回答下列问题：

    ⑴NF3中氮元素的化合价为        ；

    ⑵NF3的         大于HNO3（填氧化性或还原性）；

    ⑶在上述反应中还原剂与氧化剂的物质的量之比为         ；

    ⑷若生成0.2 mol HNO3，则转移的电子数为        ；

     

    解析:略

     

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    ⑴NF3中氮元素的化合价为        ；

    ⑵NF3的         大于HNO3（填氧化性或还原性）；

    ⑶在上述反应中还原剂与氧化剂的物质的量之比为          ；

    ⑷若生成0.2 mol HNO3，则转移的电子数为        ；

     

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    ⑴NF3中氮元素的化合价为       ；
    ⑵NF3的        大于HNO3（填氧化性或还原性）；
    ⑶在上述反应中还原剂与氧化剂的物质的量之比为         ；
    ⑷若生成0.2 mol HNO3，则转移的电子数为       ；

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