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6.下列有关叙述正确的是(  )
A.电泳现象可证明胶体带电荷
B.胶体是一种纯净物
C.胶体属于介稳体系
D.将饱和氯化铁溶液滴入氢氧化钠溶液中制备氢氧化铁胶体

分析 A.胶体不带电,胶体粒子带电;
B.由多种物质组成的物质,如果是由分子构成时由多种分子构成的是混合物;
C.胶体是一种均一、介稳定的分散系;
D.饱和氯化铁溶液与稀氢氧化钠溶液反应氢氧化铁沉淀.

解答 解:A.胶体不带电,胶体能发生电泳是因为胶体吸附离子而带电,故A错误;
B.因为分散质粒子在1nm~100nm之间的分散系就是胶体,胶体属于混合物,故B错误;
C.胶体较稳定,静止不容易产生沉淀,属于介稳体系,故C正确;
D.将饱和氯化铁溶液滴入稀氢氧化钠溶液中加热,可得氢氧化铁沉淀,故D错误.
故选C.

点评 本题考查胶体的性质,题目难度不大,注意氢氧化铁胶体的制备方法和实验步骤,注意反应的条件应用和试剂的选择,试剂的滴加顺序.

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科目:高中化学 来源: 题型:解答题

16.在高锰酸钾的催化下,尿素和次氯酸钠、氢氧化钠混合溶液反应获得肼以及两种盐,写出该化学方程式CO(NH22+NaClO+2NaOH═N2H4+Na2CO3+NaCl+H2O.

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科目:高中化学 来源: 题型:选择题

17.X、Y、Z、W、R是短周期主族元素,X原子最外层电子数是次外层的两倍,Y元素在地壳中的含量最多,Z元素的化合物的焰色反应呈黄色,W 元素的最高价氧化物的水化物不溶于水,但可溶于Z元素的最高价氧化物的水化物,R原子的核外电子数是X原子与Z原子的核外电子数之和.下列叙述正确的是(  )
A.原子半径的大小顺序r(X)>r(Y)>r(Z)>r(R)>r(W)
B.氢气在R的单质中燃烧火焰呈蓝色
C.元素X的氢化物的稳定性比Y的弱
D.Y与Z形成的两种化合物中的化学键类型均相同

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科目:高中化学 来源: 题型:选择题

14.钢化玻璃俗称普通玻璃的化身,是普通玻璃经一定物理方法处理后得到的.钢化玻璃一般不会发生自爆现象,但当钢化玻璃中含有硫化镍结核时就有可能发生自爆现象.下列有关说法中错误的是(  )
A.制取钢化玻璃的原料为石灰石、纯碱和石英
B.钢化玻璃是一种新型无机非金属材料
C.制取钢化玻璃的主要反应都是非氧化还原反应
D.在碳素钢中加入镍等合金元素可以制得不锈钢及各种特种钢

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科目:高中化学 来源: 题型:解答题

1.钴(Co)及其化合物在工业上有广泛应用.为从某工业废料中回收钴,某学生设计流程如图(废料中含有Al、Li、Co2O3和Fe2O3等物质).

已知:①物质溶解性:LiF难溶于水,Li2CO3微溶于水;
②部分金属离子形成氢氧化物沉淀的pH见表.
Fe3+Co2+Co3+Al3+
pH(开始沉淀)1.97.15-0.233.4
pH(完全沉淀)3.29.151.094.7
请回答:
(1)写出步骤Ⅱ中Co2O3与盐酸反应生成Cl2的离子方程式:Co2O3+6H++2Cl-=2Co2++Cl2↑+3H2O.
(2)步骤Ⅲ中 Na2CO3溶液的作用是调节溶液的pH,应使溶液的pH不超过;废渣中的主要成分除了LiF外,还有Fe(OH)3
(3)NaF 与溶液中的Li+形成LiF沉淀,此反应对步骤Ⅳ所起的作用是降低溶液中Li+浓度,避免步骤Ⅳ中产生Li2CO3沉淀.
(4)在空气中加热5.49g草酸钴晶体(CoC2O4•2H2O)样品,受热过程中不同温度范围内分别得到一种固体物质,其质量如表.已知:M(CoC2O4•2H2O)=183g/mol
温度范围/℃固体质量/g
150~2104.41
290~3202.41
890~9202.25
经测定,210~290℃过程中产生的气体只有CO2,此过程发生反应的化学方程式是3CoC2O4+2O2 $\frac{\underline{\;210℃-290℃\;}}{\;}$Co3O4+6CO2.温度高于890℃时,固体产物发生分解反应,固体产物为CoO.

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11.下列表述正确的是(  )
A.还原性F->Cl->S2-B.原子半径:Na>Mg>O
C.酸性:H3PO4>H2SO4>HClO4D.乙烯比例模型  

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18.下列说法不正确的是(  )
A.质谱和核磁共振不仅可用于有机小分子结构的分析,还可用于蛋白质结构的研究
B.储氢金属吸氢形成金属氢化物,改变条件释放吸收的氢气,是氢气贮存的重要途径
C.牺牲阳极的阴极保护法、外加电源的阳极保护法和改变金属组成或结构的方法都是    防止金属腐蚀的方法
D.乙醇与水互溶,这与乙醇和水分子之间能形成氢键有关

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15.实验室用含Ca2+、Mg2+、Cl-的水制取纯水,可采用的方法是(  )
A.过滤B.蒸馏C.萃取D.分液

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14.晶体硅是信息科学和能源科学中的一种重要材料,可用于制芯片和太阳能电池等,.以下是工业上制取纯硅的一种方法.

已知:在一定条件下可发生反应:Si(s)+3HCl(g)?SiHCl3(g)+H2(g)△H<0
I.反应②、③均需要加热,有如下两个温度区间分别供两反应选择,你认为反应②应选择a
(填序号字母),原因是因反应Si(s)+3HCl(g)?SiHCl3(g)+H2(g)△H<0,温度较低时反应向正向进行程度较大,有利于SiHCl3的生成;
a.520~530K           b.1350~1360K
II.现在实验室模拟工业上粗硅提纯的过程,已知SiHCl3遇水强烈水解,其他相关数据如下表所示:
物质SiCl4SiHCl3AlCl3FeCl3
沸点/℃57.733.0-315
升华温度/℃--180300
(1)现用如图1装置进行模拟反应②的过程.实验室制HCl的反应原理为:
2NaCl(s)+H2SO4(浓)$\frac{\underline{\;\;△\;\;}}{\;}$ 2HCl↑+Na2SO4

如图2A中是HCl的发生装置,你认为应选择下列哪套装置?d(填装置的序号字母),装置D中碱石灰的作用为吸收剩余HCl、防止空气中的水蒸气进入C装置造成SiHCl3的水解;
(2)已知液态粗品SiHCl3中含有杂质SiCl4、AlCl3、FeCl3等,则流程中操作①为分馏(填操作名称),下列不是该操作所需的仪器是bd(填装置序号字母);
a.冷凝管    b.圆底烧瓶  c.蒸馏烧瓶  d.分液漏斗   e.温度计  f.接受器
(3)用SiHCl3与H2反应制备纯硅的装置如土3
①按图示组装好仪器后,下列实验步骤的正确顺序为dbacef(填步骤的序号字母),
a.打开甲装置分液漏斗旋塞,滴加稀硫酸,反应生成H2
b.向装置中添加药品;
c.打开丙装置分液漏斗的旋塞,滴加SiHCl3,并加热相应装置;
d.检查装置气密性;
e.停止向丙装置滴加SiHCl3,并停止加热相应装置;
f.停止通H2
步骤c中需要加热的装置为丙、丁(填装置序号“甲”、“乙”、“丙”、“丁”)
②该套装置的设计缺陷是无尾气处理装置.

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