(2009?泰州模拟)高纯超净特种气体主要用于制造半导体器件、化合物半导体、激光器、光导纤维、太阳能电池等.超纯硅化氢制备方法如下:(已知:常温下SiH
4难溶于水,与稀硫酸不反应,乙醚沸点34.6℃)
①由下列两种方法制得SiH
4方法一:Mg
2Si+4NH
4Cl
SiH
4+2MgCl
2+4NH
3方法二:LiAlH
4+SiCl
4SiH
4+AlCl
3+LiCl
②除去SiH
4中混有的杂质气体
请回答下列问题:
(1)对方法一的理解,有同学认为是NH
4+水解产生H
+,Mg
2Si与H
+反应生成SiH
4,你认为该观点是否正确?并简述理由
不正确,因为该反应在液氨中进行,非水体系,不会水解
不正确,因为该反应在液氨中进行,非水体系,不会水解
.
(2)将方法二的固体产物溶于水,只有一种物质能促进水的电离,则NaOH、Mg(OH)
2、LiOH碱性由强到弱的顺序为
NaOH>LiOH>Mg(OH)2
NaOH>LiOH>Mg(OH)2
.
(3)两种方法制得的SiH
4中均含有少量杂质,有同学提出用下列方法除去SiH
4中的杂质,其中肯定不可行是
b
b
.
a.用稀硫酸洗气 b.高温使杂质分解 c.低温分馏
(4)甲、乙、丙三同学在讨论SiH
4制备方法的化学反应类型时发表如下观点,你认为正确的是
bc
bc
.
a.甲同学认为两个反应均为氧化还原反应
b.乙同学认为两个反应中只有一个属于氧化还原反应
c.丙同学认为要判断是否属于氧化还原反应,还需要知道SiH
4中各元素具体的化合价.