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(1)纯硅在___________工业上有广泛的用途,可以制晶体管和光电器件。硅还可以用来制造合金,如含硅4%的硅钢有___________,可用来制造变压器的___________;含硅15%左右的钢可作耐___________的容器。?

(2)高纯硅、金刚石、硅胶、水玻璃、石英五种物质,能用来制造钻探机钻头的是___________,能用作黏合剂、防腐剂的是___________,能用来制作半导体材料的是___________,能用来作干燥剂的是___________,能用来制造普通玻璃的是___________。?

解析:(1)含Si 4%的钢有磁性,用于制造变压器铁芯;含Si 15%的钢耐酸性强,用于制造耐酸容器。

(2)金刚石硬度大,可用来制造钻头。水玻璃可将粗糙的硅酸盐产品黏连在一起,是建筑业上常用的黏合剂。高纯硅主要是用来制造半导体材料的。硅胶有较强的吸水性,可用作干燥剂。石英是制造普通玻璃,也是制造石英玻璃的主要原料。

答案:(1)电子 磁性 铁芯 酸

(2)金刚石 水玻璃 高纯硅 硅胶 石英

练习册系列答案
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科目:高中化学 来源: 题型:

硅单质及其化合物应用范围很广.
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,工业上可以按如下步骤制备高纯硅.
Ⅰ.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅;
Ⅱ.粗硅与干燥的氯气在450~500℃条件下反应制得SiCl4
Ⅲ.SiCl4液体经精馏提纯后与过量H2在1 100~1 200℃条件下反应制得高纯硅.
已知SiCl4沸点为57.6℃,能与H2O强烈反应.1mol H2与SiCl4气体完全反应吸收的热量为120.2kJ.
请回答下列问题:
①第Ⅲ步反应的热化学方程式为
2H2(g)+SiCl4(g)
 1100-1200℃ 
.
 
Si(s)+4HCl(g)△H=+240.4kJ?mol-1
2H2(g)+SiCl4(g)
 1100-1200℃ 
.
 
Si(s)+4HCl(g)△H=+240.4kJ?mol-1

②整个制备纯硅的过程中必须严格控制在无水无氧的条件下.SiCl4在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾,其生成物是
H2SiO3(或H4SiO4)和HCl
H2SiO3(或H4SiO4)和HCl
;H2还原SiCl4过程中若混入O2,可能引起的后果是
爆炸
爆炸

(2)二氧化硅被大量用于生产玻璃.工业上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283kg在高温下完全反应时放出CO2 44kg,生产出的玻璃可用化学式Na2SiO3?CaSiO3?xSiO2表示,则其中x=
4
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科目:高中化学 来源: 题型:

硅单质及其化合物应用范围很广。

(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,工业上可以按如下步骤制备纯硅:

Ⅰ.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅

Ⅱ.粗硅与干燥的氯气在450 ℃~500 ℃ 反应制得SiCl4

Ⅲ.  SiCl4液体经精馏提纯后与过量H2在1100 ℃~1200 ℃ 反应制得纯硅

已知SiCl4沸点为57.6 ℃,能与H2O强烈反应。1 mol H2与SiCl4气体完全反应吸收的热量为120.2 kJ。请回答下列问题:

① 第Ⅰ步制备粗硅的化学反应方程式为                                        ,第Ⅲ步反应的热化学方程式是                                                   

②整个制备纯硅过程必须严格控制无水无氧。SiCl4在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾,其生成物是           ;H2还原SiCl4过程中若混O2,可能引起的后果是        

(2)二氧化硅大量用于生产玻璃。工业上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283 kg在高温下完全反应时放出CO2 44 kg,生产出的玻璃可用化学式Na2SiO3·CaSiO3·xSiO2表示,则其中x          

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科目:高中化学 来源:2011届福建省厦门外国语学校高三11月月考化学试卷 题型:填空题

硅单质及其化合物应用范围很广。
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,工业上可以按如下步骤制备纯硅:
Ⅰ.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅
Ⅱ.粗硅与干燥的氯气在450 ℃~500 ℃ 反应制得SiCl4
Ⅲ.  SiCl4液体经精馏提纯后与过量H2在1100 ℃~1200 ℃ 反应制得纯硅
已知SiCl4沸点为57.6 ℃,能与H2O强烈反应。1 mol H2与SiCl4气体完全反应吸收的热量为120.2 kJ。请回答下列问题:
① 第Ⅰ步制备粗硅的化学反应方程式为                                       ,第Ⅲ步反应的热化学方程式是                                                   
②整个制备纯硅过程必须严格控制无水无氧。SiCl4在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾,其生成物是          ;H2还原SiCl4过程中若混O2,可能引起的后果是        
(2)二氧化硅大量用于生产玻璃。工业上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283 kg在高温下完全反应时放出CO2 44 kg,生产出的玻璃可用化学式Na2SiO3·CaSiO3·xSiO2表示,则其中x         

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科目:高中化学 来源:2010-2011学年福建省高三11月月考化学试卷 题型:填空题

硅单质及其化合物应用范围很广。

(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,工业上可以按如下步骤制备纯硅:

Ⅰ.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅

Ⅱ.粗硅与干燥的氯气在450 ℃~500 ℃ 反应制得SiCl4

Ⅲ.  SiCl4液体经精馏提纯后与过量H2在1100 ℃~1200 ℃ 反应制得纯硅

已知SiCl4沸点为57.6 ℃,能与H2O强烈反应。1 mol H2与SiCl4气体完全反应吸收的热量为120.2 kJ。请回答下列问题:

① 第Ⅰ步制备粗硅的化学反应方程式为                                        ,第Ⅲ步反应的热化学方程式是                                                   

②整个制备纯硅过程必须严格控制无水无氧。SiCl4在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾,其生成物是           ;H2还原SiCl4过程中若混O2,可能引起的后果是        

(2)二氧化硅大量用于生产玻璃。工业上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283 kg在高温下完全反应时放出CO2 44 kg,生产出的玻璃可用化学式Na2SiO3·CaSiO3·xSiO2表示,则其中x          

 

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