硅及其化合物对人类现代文明的发展具有特殊贡献。请回答下列有关问题：
(1)硅原子的结构示意图：________。
(2)下列物品或设备所用的材料属于硅酸盐的是________。
①长江三峡水泥大坝 ②石英光导纤维 ③陶瓷坩埚
④普通玻璃 ⑤硅太阳能电池
| A．①②⑤ | B．③④⑤ | C．②③④ | D．①③④ |
科目：高中化学 来源： 题型：填空题
二氧化氯泡腾片，有效成分（ClO2）是一种高效、安全的杀菌、消毒剂。
方法一：氯化钠电解法是一种可靠的工业生产ClO2气体的方法。该法工艺原理如图。其过程是将食盐水在特定条件下电解得到的氯酸钠（NaClO3）与盐酸反应生成ClO2。
（1）工艺中可利用的单质有__________（填化学式），发生器中生成ClO2的化学方程式为_____________。
（2）此法的缺点主要是______________________________________。
方法二：最近，科学家又研究出了一种新的制备方法，纤维素还原法制ClO2，其原理是：纤维素水解得到的最终产物X与NaClO3反应生成ClO2。
（3）配平方程式： □ （X） +□NaClO3+□H2SO4→□ClO2↑+□CO2↑+□H2O+□______
若反应中产生4.48L（折算成标准状况下）气体，电子转移________ 个。
（4）ClO2和Cl2均能将电镀废水中的CN—氧化为无毒的物质，自身被还原为Cl—。处理含CN—相同量的电镀废水，所需Cl2的物质的量是ClO2的_______倍。
方法三：实验室常用氯酸钠(NaClO3)和亚硫酸钠(Na2SO3)用硫酸酸化，加热制备二氧化氯，化学反应方程式为：2NaClO3+Na2SO3＋H2SO4
2ClO2↑+2Na2SO4＋H2O
（5）反应中的Na2SO3溶液中存在如下平衡：H2O
H++OH-和 ________________（用离子方程式表示）.
常温下，0.1mol/L该溶液中离子浓度由大到小排列__________________（用离子符号表示）
（6）常温下，已知NaHSO3溶液呈酸性，在Na2SO3溶液中滴加稀盐酸至中性时，溶质的主要成分有________________。（用化学式表示）
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科目：高中化学 来源： 题型：填空题
硫酸和硝酸是中学阶段常见的两种强酸,请就两者与金属铜的反应情况回答下列问题:
(1)在100 mL 18 mol·L-1的浓硫酸中加入过量的铜片,加热使之充分反应,产生的气体在标准状况下的体积可能是 (填写代号);
| A．7.32 L | B．6.72 L | C．20.16 L | D．30.24 L |
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科目：高中化学 来源： 题型：填空题
白玉的化学式可用CaxMgySipO22(OH)2表示（也可用Ca、Mg、Si、H的氧化物表示）。
（1）取8.l0g白玉粉末灼烧至恒重，固体减少了0.18g，则白玉的摩尔质量为______。
（2）另取4.05g白玉粉末加入l mol/L的盐酸l00mL中充分溶解，最终得不溶氧化物2. 40g.过滤，将滤液和洗涤液合并后往其中加入足量的铁屑，得到气体336mL(标准状况下).则
①p=_________；
②白玉的化学式（用氧化物的形式）表示为________。
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科目：高中化学 来源： 题型：填空题
在NO2、HBr、SO2和NH3四种气体中，有颜色的气体是 ；在相同条件下，密度最小的气体是 ；能使润湿的红色石蕊试纸变蓝的气体是 ；两气体相遇冒白烟，这两种气体是 。
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科目：高中化学 来源： 题型：填空题
硝酸铵是含氮量较高的化肥，生产流程如下（产物水均已略去）：
（1）反应④的化学方程式为3NO2＋H2O = 2HNO3＋NO，该反应的氧化剂为__________，还原剂为__________。
（2）补充并配平反应②的化学方程式：____NH3 ＋___O2
____NO+ ________
（3）化学反应_______(填序号)是非氧化还原反应，离子方程式为_________________
（4）有人设计了一个反应来制备硝酸NO2+NH3 — HNO3+H2O（未配平），你认为该反应 （填“能”或“不能”）发生，理由是______________________。
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科目：高中化学 来源： 题型：填空题
硅在地壳中的含量较高，硅及其化合物的开发由来已久，在现代生活中有广泛应用。回答下列问题：
（1）陶瓷、水泥和玻璃是常用的传统的无机非金属材料,其中生产普通玻璃的主要原料有 。
（2）高纯硅是现代信息、半导体和光伏发电等产业都需要的基础材料。工业上提纯硅有多种路线，其中一种工艺流程示意图及主要反应如下：
①工业上用石英砂和焦炭在电弧炉中高温加热到1600℃-1800℃除生成粗硅外，也可以生产碳化硅，则在电弧炉内可能发生的反应的化学方程式为 。
②在流化床反应的产物中，SiHCl3大约占85%，还有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等，粗硅生成SiHCl3的化学反应方程式 。
（3）有关物质的沸点数据如下表，提纯SiHCl3的主要工艺操作依次是沉降、冷凝和 ;SiHCl3极易水解，其完全水解的产物为 。
| 物质 | Si | SiCl4 | SiHCl3 | SiH2Cl2 | SiH3Cl | HCl | SiH4 |
| 沸点/℃ | 2355 | 57．6 | 31．8 | 8．2 | -30．4 | -84．9 | -111．9 |
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科目：高中化学 来源： 题型：填空题
请回答下列问题:
（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷
还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下: 
①写出由纯
制备高纯硅的化学方程式: ____________________________________。
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。遇水剧烈反应生成
、HCl和另一种物质,配平后的化学反应方程式为___________________________;
还原过程中若混入
可能引起的后果是____________________________________。
（2）下列有关硅材料的说法正确的是_________ (填字母)。
| A．碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥 |
| B．氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承 |
| C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维 |
| D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高 |
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科目：高中化学 来源： 题型：填空题
金刚石SiC具有优良的耐磨、耐腐蚀特性，应用广泛.
(1)碳与同周期元素Q的单质化合仅能生成两种常见气态化合物，其中一种化合物H为非极性分子，碳元素在周期表中的位置是，Q是，R的电子式为.
(2)一定条件下，Na还原CCl4可制备金刚石，反应结束冷却至室温后，回收CCl4的实验操作名称为，除去粗产品中少量钠的试剂为.
(3)碳还原制SiC,其粗产品中杂质为Si和SiO2.先将20.0g
粗产品加入到过量的NaOH溶液中充分反应，收集到0.1mol氢气，过滤得SiC固体11.4g，滤液稀释到1L，生成氢气的离子方程式为，硅酸钠的物质的量浓度为
(4)下列叙述正确的有(填序号)，ks5u
①Na还原CCl4的反应、Cl2与H2O的反应均是置换反应②水晶、干冰熔化时克服粒子间作用力的类型相同③Na2SiO3溶液与SO3的反应可用于推断Si与S的非金属性强弱
④钠、锂分别在空气中燃烧，生成的氧化物中阴阳离子数目比均为1:2
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(2)D (3)干燥条件下蒸馏 SiCl4＋3H2O=H2SiO3＋4HCl，HCl遇水蒸气产生白雾
