对于ⅣA族元素,下列叙述中不正确的是
A.SiO2和CO2中,Si和O,C和O之间都是共价键
B.C、Si和Ge的最外层电子数都是4,次外层电子数都是8
C.CO2和SiO2都是酸性氧化物,在一定条件下都能和氧化钙反应
D.该族元素的主要化合价是+4和+2
科目:高中化学 来源: 题型:
从下列实验事实所得出的结论,正确的是()
实验事实 结论
① Cl2的水溶液可以导电 Cl2是电解质
② 常温下,0.1mol•L﹣1NaA与NaB溶液的pH前者大 酸性:HA<HB
③ 常温下,白磷可自燃而硫不与氧气反应 非金属性:P>S
④ 某溶液中滴加KSCN溶液,溶液变为血红色 该溶液含有Fe3+
A. ③④ B. ②④ C. ①② D. 全部
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科目:高中化学 来源: 题型:
下列有关Cl、N、S等非金属元素化合物的说法正确的是( )
A.漂白粉的成分为次氯酸钙
B.实验室可用浓硫酸干燥氨气
C.实验室可用NaOH溶液处理NO2和HCl废气
D.Al2(SO4)3可除去碱性废水及酸性废水中的悬浮颗粒
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科目:高中化学 来源: 题型:
印染工业常用亚氯酸钠(NaClO2)漂白织物。亚氯酸钠在溶液中可生成ClO2、HClO2、,其中HClO2是漂白剂的有效成分,ClO2是有毒气体。各组分含量随pH变化情况如图所示,由图可知,使用该漂白剂的最佳pH为( )
A.3.0 B.4.0—4.5
C.6.5—7.0 D.9.0
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科目:高中化学 来源: 题型:
硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式____________________________。
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式_________________;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是_________________________。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是__________________(填字母)。
A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥
B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料——光导纤维
D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高
E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,振荡。写出实验现象并给予解释_______________________________。
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科目:高中化学 来源: 题型:
下列实验现象的描述错误的是
A. 氢气在氯气中燃烧生成绿色烟雾
B. 红热的铁丝在氧气中燃烧,火星四射,生成黑色固体颗粒
C. 点燃的硫在氧气中剧烈燃烧,发出蓝紫色火焰
D.钠在空气中燃烧,发出黄色的火焰,生成淡黄色固体
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科目:高中化学 来源: 题型:
下图中各物质均由常见元素(原子序数≤20)组成。已知A、B、K为单质,且在常温下A和K为气体,B为固体。D为常见的无色液体。I是一种常用的化肥,在其水溶液中滴加AgNO3溶液有不溶于稀HNO3的白色沉淀产生。J是一种实验室常用的干燥剂。它们的相互转化关系如下图所示(图中反应条件未列出)。请回答下列问题:
(1)I的化学式为 ;J的电子式为 。
(2)反应①的化学方程式为 。
(3)F的水溶液与氯气反应的离子方程式为 。
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科目:高中化学 来源: 题型:
下列对物质的量理解正确的是( )
| A. | 物质的量就是物质的质量 |
| B. | 物质的量是一种基本物理量 |
| C. | 物质的量就是物质的摩尔质量 |
| D. | 物质的量就是物质所含粒子的数量 |
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