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【题目】除去下列物质中少量杂质所需除杂试剂及方法不正确的是


物质(杂质)

除杂试剂

除杂方法

A

乙醇(水)

CaO

蒸馏

B

淀粉溶液(NaCl

———

渗析

C

CO2HCl

NaOH溶液

洗气

D

NaCl溶液(I2

CCl4

萃取分液

【答案】C

【解析】试题分析:加CaO与水反应,增大与乙醇的沸点差异,然后蒸馏可除杂, A正确;淀粉不能透过半透膜,而NaCl溶液可以,则利用渗析法可分离,B正确;二者均与NaOH溶液反应,将原物质反应掉,不能除杂,应选饱和碳酸氢钠溶液来除杂, C错误;碘不易溶于水,易溶于有机溶剂,则加CCl4,萃取分液可除杂,D正确。

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【题目】氧化还原反应在生产生活中有着重要的应用。请按要求写出相应的方程式。

1)将含SO2的废气通入含Fe2+(催化剂)的溶液中,常温下可使SO2转化为SO24,其总反应为2SO2O22H2O2H2SO4。上述总反应分两步进行,第一步反应的离子方程式为4Fe2+O24H+4Fe3+2H2O,写出第二步反应的离子方程式:

2pH3.6时,碳酸钙与硫酸铝反应可制备碱式硫酸铝[Al2(SO4)x(OH)62x]溶液。若溶液的pH偏高,则碱式硫酸铝产率降低且有气泡产生,用化学方程式表示其原因:

3ClO2是一种高效安全的杀菌消毒剂。氯化钠电解法生产ClO2工艺原理示意图如下:

写出氯化钠电解槽内发生反应的离子方程式:

写出ClO2发生器中的化学方程式,并标出电子转移的方向及数目:

③ClO2能将电镀废水中的CN离子氧化成两种无毒气体,自身被还原成Cl。写出该反应的离子方程式

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C. NaClNaI D. NaClI2

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【题目】室温下,某溶液中由水电离产生的c(H)等于10-10mol·L-1,该溶液的溶质不可能是( )

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再加入30mL 3mol/L盐酸 改用30mL 6mol/L盐酸 改用3g粉末状大理石 适当升高温度.

A. ①②④ B. ②③④ C. ①③④ D. ①②③

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【题目】下列叙述错误的是(  )

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