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    某化工厂为消除所排出的废气中Cl2对环境的污染，将含Cl2的废气通过含过量铁粉的FeCl2溶液即可有效地除去Cl2．这一处理过程可用两个化学方程式表示为：______，______，处理过程中消耗的原料是______（填“Fe粉”或“FeCl2”）．
    Cl2与FeCl2溶液反应生成FeCl3，其反应的化学方程式为：2FeCl2+Cl2=2FeCl3；铁粉与FeCl3反应生成FeCl2其反应的化学方程式为：2FeCl3+Fe=3FeCl2；根据两个反应可知，处理过程中消耗的原料是铁粉，
    故答案为：2FeCl2+Cl2=2FeCl3；2FeCl3+Fe=3FeCl2；Fe粉．
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    相关习题

    科目：高中化学 来源：不详 题型：填空题

    下图中的每一方格表示有关的一种反应物或生成物，其中粗框表示初始反应物（反应时加入或生成的水，以及生成沉淀J时的其它产物均已略去）。

    填写下列空白：
    （1）物质B是     ，F是     ，J是     。
    （2）反应①的离子方程式是      

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    科目：高中化学 来源：不详 题型：填空题

    （I）电子工业常用30%的FeCl3溶液腐蚀敷在绝缘板上的铜箔，制造印刷电路板．用FeCl3溶液做腐蚀液与Cu反应生成CuCl2和FeCl2．
    （1）写出该反应的化学方程式______．
    （2）检验溶液中Fe3+存在的试剂是______，证明Fe3+存在的现象是______．
    （Ⅱ）印刷电路的废腐蚀液含有大量CuCl2、FeCl2、FeCl3，任意排放会造成环境污染及资源的浪费．通过下列流程可从该废液中回收铜，并将铁的化合物全部转化为FeCl3溶液，作为腐蚀液原料循环使用．

    （1）步骤①中发生反应的离子方程式______．
    （2）步骤②需加入的试剂A是______（填化学式）．
    （3）步骤③通入的气体B是______（填化学式），写出该反应的化学方程式______．
    （4）为测定滤渣中铜的质量分数，取50g的滤渣与足量的试剂A反应，得到5.6L气体（标准状况下），试计算滤渣中铜的质量分数．（写出计算过程）

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    科目：高中化学 来源：不详 题型：填空题

    亚铁盐不稳定，在空气中易被氧化，因此在存放FeSO4溶液时，常加入______，其理由是______（用离子方程式表示）．

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    科目：高中化学 来源：不详 题型：单选题

    将8.34gFeSO4?7H2O样品隔绝空气加热脱水，其热重曲线（样品质量随温度变化的曲线）如图所示．则下列说法正确的是（　　）
    A．FeSO4?7H2O晶体中有4种不同结合力的水分子
    B．在100℃时，M的化学式为FeSO4?6H2O
    C．在200℃时，N的化学式为FeSO4?3H2O
    D．380℃的P加热至650℃时的化学方程式为：2FeSO4
    高温
    .
    Fe2O3+SO2↑+SO3↑

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    科目：高中化学 来源：不详 题型：问答题

    将等质量混合的铜、锌、铁三种金属组成的混合物Wg加入到FeCl3和盐酸组成的混合液中，充分反应后：
    （1）若无固体剩余，则溶液中一定有的金属离子是：______，可能有的金属离子是：______．
    （2）若剩余固体
    W
    3
    g    ，则溶液中金属离子一定有______，一定没有______．

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    科目：高中化学 来源：不详 题型：单选题

    下列各组物质中，常温下能起反应产生气体的是（　　）
    A．铁跟浓硫酸B．铜跟浓硝酸C．铜跟浓硫酸D．铝跟浓硝酸

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    科目：高中化学 来源：不详 题型：单选题

    镁粉是制造焰火的原料之一，工业上镁粉是通过将镁粉蒸气冷却得到的．下列气体中，可用作冷却镁粉的保护气的是（　　）
    A．空气B．二氧化碳C．氧气D．氦气

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    科目：高中化学 来源：不详 题型：单选题

    诺贝尔化学奖获得者施罗克等人发现金属钼的卡宾化合物可以作为非常有效的烯烃复分解催化剂。工业上冶炼钼的化学原理为：

    △Gaowen 

     
     ①2MoS2 + 7O2=== 2MoO3 + 4SO2；   ②MoO3 + 2NH3·H2O === (NH4)2MoO4 + H2O；

     ③(NH4)2MoO4 + 2HCl ===== H2MoO4↓ + 2NH4Cl；④ H2MoO4==== MoO3 + H2O；
    ⑤用还原剂将MoO3，还原成金属钼。则下列说法正确的是
    A．MoS2煅烧产生的尾气可直接排空
    B．MoO3是金属氧化物，也是碱性氧化物
    C．H2MoO4是一釉强酸
    D．利用H2、CO和铝分别还原等量的MoO3，所消耗还原剂的物质的量之比为3：3：2

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