工业上用“三氯氢硅还原法制备纯硅的工业流程如图:(1)石英砂的主要成分是 .在制备粗硅时焦炭的作用是 .(2)制备三氯氢硅的反应:SiSiHCl3 伴随的副反应为: Si SiCl4 已知SiHCl3和SiCl4常温下均为液体.工业上分离SiHCl3和SiCl4的操作方法为 ,写出SiHCl3(g)和HCl反应生成SiCl4(g)和H2的热化学方� 题目和参考答案——青夏教育精英家教网—

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工业上用“三氯氢硅还原法”制备纯硅的工业流程如图：

（1）石英砂的主要成分是（填化学式），在制备粗硅时焦炭的作用是。
（2）制备三氯氢硅的反应：
Si（s）+3HCl（g）

SiHCl3（g）+H2（g）

伴随的副反应为：
Si（s）+4HCl（g）

SiCl4（g）+2H2（g）

已知SiHCl3和SiCl4常温下均为液体，工业上分离SiHCl3和SiCl4的操作方法
为        ；
写出SiHCl3（g）和HCl反应生成SiCl4（g）和H2的热化学方程式        。
（3）该生产工艺中可以循环使用的物质是        。
（4）实验室用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下图（热源及夹持装置略去）.已知SiHCl3能与H2O强烈反应，在空气中易自燃。
①装置B中的试剂是        （填名称），装置C中的烧瓶需要加热，其目的是         。

②实验中先让稀硫酸与锌粒反应一段时间后，再加热C、D装置的理由是，装置D中发生反应的化学方程式为。

（1）

（1分）还原剂（1分）
（2）蒸馏，（2分）

（2分）
（3）HCl和

（2分）
（4）①浓硫酸，（1分）使进入烧瓶的液态

变为气体。（1分）②让

排尽装置中的空气；（2分）

（2分）

略

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         （填分子式）；然后使Si（NH₂）₄受热分解，分解后的另一种产物的分子式为             。
II．（1）氨化硅抗腐蚀能力很强，但易被氢氟酸腐蚀，氨化硅与氢氟酸反应生成四氟化硅和一种铵盐，此盐中存在的化学键类型有                 。
（2）已知：25℃，101kPa条件下的热化学方程式：
3Si（s）+2N₂（g）==Si₃N₄（s）  △H=—750.2kJ/mol
Si（s）+2Cl₂（g）==SiCl₄（g）  △H=—609.6kJ/mol

H₂（g）+

Cl₂（g）==HCl（g） △H=—92.3kJ/mol
请写出四氯化硅气体与氮气、氢气反应的热化学方程式：
。
III．工业上制取高纯硅和四氯化硅的生产流程如下：

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（1）原料B的主要成分是              。
（2）写出焦炭与原料B中的主要成分反应的化学方程式：                 。
（3）上述生产流程中电解A的水溶液时，阳极材料能否用Cu？  （填“能”或“不能”）。
写出Cu为阳极电解A的水溶液开始一段时间阴阳极的电极方程式：
阳极：                     ；阴极：                   。

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