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将足量CO2气体通入水玻璃(Na2SiO3溶液)中,然后加热蒸干,再在高温下充分灼烧,最后得到的固体物质是( )
A.Na2SiO3 B.Na2CO3、Na2SiO3
C.Na2CO3、SiO2 D.SiO2
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下列离子方程式不正确的是( )
A.石英与烧碱反应:SiO2+2OH-===SiO+H2O
B.硅与烧碱反应:Si+2OH-===SiO+H2↑
C.硅酸钠溶液中通入少量CO2:SiO+CO2+H2O===CO+H2SiO3↓
D.往水玻璃中加入盐酸:2H++SiO===H2SiO3↓
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下列叙述正确的是( )
A.高温下二氧化硅与碳酸钠反应放出二氧化碳,说明硅酸(H2SiO3)的酸性比碳酸强
B.陶瓷、玻璃、水泥容器都能贮存氢氟酸
C.石灰抹墙、水泥砌墙的硬化过程原理相同
D.玻璃窑中出来的气体的主要成分是二氧化碳
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常温下,下列不发生反应的一组物质是( )
①硅与NaOH溶液 ②硅与盐酸 ③硅与氢氟酸 ④二氧化硅与碳酸钠 ⑤二氧化硅与NaOH溶液 ⑥二氧化硅与浓硝酸
A.①②④ B.③④⑥
C.②⑤⑥ D.②④⑥
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下列叙述正确的是( )
A.利用高纯硅可以制成光电池,将光能直接转化为电能
B.CO、CO2均易与血红蛋白结合而中毒
C.在SiO2制备高纯硅的过程中只涉及置换反应
D.SiO2和H2O反应可直接制备H2SiO3
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下列说法中,不正确的是( )
A.SiO2是酸性氧化物,但不与水反应
B.泡花碱属于盐类
C.明矾和漂白粉均可用于自来水的杀菌、消毒
D.玻璃和陶瓷都属于传统硅酸盐材料
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下列关于C、Si两种非金属元素的说法中,正确的是( )
A.两者结合形成的化合物是共价化合物
B.在自然界中都能以游离态存在
C.氢化物的热稳定性比较:CH4<SiH4
D.最高价氧化物都能与水反应生成相应的酸
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单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450~500 ℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
相关信息如下:
a.四氯化硅遇水极易水解;
b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物;
c.有关物质的物理常数见下表:
物质 | SiCl4 | BCl3 | AlCl3 | FeCl3 | PCl5 |
沸点/℃ | 57.7 | 12.8 | - | 315 | - |
熔点/℃ | -70.0 | -107.2 | - | - | - |
升华温度/℃ | - | - | 180 | 300 | 162 |
请回答下列问题:
(1)写出装置A中发生反应的离子方程式:________________________________________________________________________。
(2)装置A中g管的作用是____________;装置C中的试剂是__________;装置E中的h瓶需要冷却的理由是_______________________________。
(3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是______________________(填写元素符号)。
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晶体硅(熔点1 410 ℃)是良好的半导体材料。由粗硅制纯硅过程如下:
Si(粗)SiCl4SiCl4(纯)Si(纯)
写出SiCl4的电子式:______________;在上述由SiCl4制纯硅的反应中,测得每生成1.12 kg纯硅需吸收a kJ热量,写出该反应的热化学方程式:________________________________________________________________________。
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“碳捕捉技术”是指通过一定的方法将工业生产中产生的CO2分离出来并利用。如可利用NaOH溶液来“捕捉”CO2,其基本过程如下图所示(部分条件及物质未标出)。
下列有关该方法的叙述中正确的是( )
①能耗大是该方法的一大缺点
②整个过程中,只有一种物质可以循环利用
③“反应分离”环节中,分离物质的基本操作是蒸发结晶、过滤
④该方法可减少碳排放,捕捉到的CO2还可用来制备甲醇等产品
A.①② B.②③ C.③④ D.①④
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