回答下列问题。
(1) Cu₂S熔炼过程发生的主要反应为：
2Cu₂S(s)+3O₂(g)=2Cu₂O(s)+2SO₂(g) △H=-768.2 kJ/mol
2Cu₂O(s)+Cu₂S(s)=6Cu(s)+SO₂(g) △H=+116.0 kJ/mol
在熔炼过程中不需要持续加热，原因是____。
(2)熔炼过程中产生大量的___（填分子式），可进一步加工并作为上述流程中的原料加以循环利用。
(3)炉渣的主要成分是Fe₂O₃、FeO、Al₂O₃、SiO₂，为了得到铁红，需对上述滤液进行处理，处理过程涉及下列步骤中的___（填序号）。
A．氧化 B．还原 C．灼烧 D．加碱
(4)废电解液中含有较多的Ni²⁺ ，从废电解液提取硫酸镍晶体，需要用电解法把电解液中的Cu²⁺ 除去，电解的阳极可以采用___作为电极材料，阳极的电极反应式是____。
(5)从废电解液中除去Pb²⁺的方法是往其中通入H₂S至饱和，使Pb²⁺转化为硫化铅沉淀，溶液的 pH对转化效果的影响是____。已知 ，饱和H₂S溶液中c( H₂S)为0.1 mol/L，NiS的Ksp=10-11，若废 电解液的pH =5，为保证不生成NiS沉淀，Ni²⁺的浓度应控制在__以下。

A．该过程是一种新的硫酸生产方法
B．该过程中硫酸是催化剂
C．该过程中①、②是加成反应
D．该过程中③、④是酯类的水解反应

(1)请写出下列各步反应的化学方程式： ①____， ②____， ④____。
(2)若①步没有过滤操作而直接进入步骤②，对后面的操作会有什么影响______________？

①写出由纯SiHCl₃，制备高纯硅的化学反应方程式________________________。
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式______________________________；H₂还原SiHCl₃ 过程中若混入O₂，可能引起的后果是_________________________________。
（2）下列有关硅材料的说法正确的是____（填字母）。
A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥
B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承
C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料--光导纤维
D．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高
E．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅 

(1)其中关键的一步为（如图乙所示）氯气和氢气在燃烧管口燃烧，生成HCl。氯气有毒，因此，通入气体的合理方式是：A处通入____， B处通入___，同时，应采取的措施是____。
(2)合成盐酸厂要求合成气中HCl的体积分数大于97%，试用最简便的方法进行分析____ 。

查表得：
BaSO₄(s)+4C(s)4CO(g)+ BaS(s) △H1=+571.2kJ ·mol^-1 ①
BaSO₄(s)+2C(s)2CO₂(g)+BaS(s) △H2 =+ 226. 2kJ·mol^-1 ②
(1)气体用过量的NaOH溶液吸收，得到硫化钠。Na₂S水解的离子方程式为_________。
(2)向BaCl₂溶液中加入AgNO₃和KBr，当两种沉淀共存时____________． [ Ksp ( AgBr) = 5.4×10^-13 ,Ksp ( AgCl) = 2. 0×10 ^-10 ]
(3)反应C(s) +CO₂(g)2CO( g)的△H=__________kJ·mol^-1。
(4)实际生产中必须加入过量的炭，同时还要通入空气，其目的是_________。

(1)写出铝土矿与浓NaOH溶液反应的离子方程式：___________。
(2)写出反应Ⅱ的离子方程式：_____________；
(3)结合反应Ⅱ，判断下列微粒结合质子(H⁺)的能力最强的是_____________ （填字母序号）。
a.AlO₂^-或[Al(OH)₄]^-
b.SiO₃^2-
c.CO₃^2-
(4)反应Ⅲ制取Al₂O₃的操作是：洗涤、______________。
(5)写出副产品Na₂SiO₃溶液的一种用途：_____________。

已知：
①温度较低时：2KOH+Cl₂=KCl+KClO+H₂O
②温度较高时：6KOH+3Cl₂=5 KCl+KClO₃+3H₂O
③Fe(NO₃)₃+KClO+KOH→K₂FeO₄+KNO₃+KCl+H₂O（未配平）
(1)该生产应在温度________的情况下进行（填“较高”或“较低”）；
(2)请配平反应③：
 口Fe(NO₃)₃+口KClO+口KOH→口K₂FeO₄+口KNO₃+口KCl+H₂O
(3) K₂FeO₄具有强氧化性的原因为___________；
(4)在“反应液I”中加KOH固体的目的是____________；
A．为下一步反应提供反应物
B．与“反应液I”中过量的Cl₂继续反应，生成更多的KClO
C．KOH同体溶解时会放出较多的热量，有利于提高反应速率
D．使副产物KClO₃转化为KClO
(5)从“反应液Ⅱ”中分离出K₂FeO₄晶体后，可以得到的副产品有 ____（写化学式）。

(1)制备三氯氢硅的反应为：Si(s) +3 HCl(g)=SiHCl₃(g)+H₂(g) △H=-210 kJ·mol^-1。
伴随的副反应有：Si(s)+4HCl(g)=SiCl₄(g)+2H₂(g) △H=-241 kJ·mol^-1。
SiCl₄在一定条件下与H₂反应可转化为SiHCl₃，反应的热化学方程式为SiCl₄(g)+H₂(g)=SiHCl₃(g)+HCl(g) △H=___________。
(2)由纯SiHCl₃制备高纯硅的化学反应方程式为___________。该生产工艺中可以循环使用的物质是_____________（至少写出两种）。
(3)由于SiH₄具有易提纯的特点，因此硅烷热分解法是制备高纯硅很有发展潜力的方法。工业上广泛采用的合成硅烷方法是让硅化镁和同体氯化铵在液氨介质中反应得到硅烷．化学方程式是___________；整个制备过程必须严格控制无水，否则反应将不能生成硅烷，而是生成硅酸和氢气等，其化学方程式为___________；整个系统还必须与氧隔绝，其原因是___________。