A.只有氧化性B.只有酸性和氧化性

C.没有还原性D.既有氧化性又有还原性，还有酸性

A.硝酸钾B.稀硫酸C.氯化钠晶体D.氢氧化钠

请填空：

(1)形成单质A的原子的结构示意图为________，它的最高化合价为________。

(2)B的化学式为_______________，B和碳反应生成A和E的化学方程式为_________________________。

(3)C的化学式为________，D的化学式为____________。

【题目】用来表示可逆反应2A(g)＋B(g) 2C(g)(正反应为放热反应)的正确图像为

A. A B. B C. C D. D

A.______；B.______；C.______； D.______。

A. 1:10:100:1000 B. 0:1:12:11 C. 14:13:12:11 D. 14:13:2:3

(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式___________。

②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式___________；H2还原SiHCl3过程中若混有O2，可能引起的后果是___________。

(2)下列有关硅材料的说法正确的是___________(填字母)。

A.碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水泥

B.氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承

C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料光导纤维

D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的，其熔点很高

E.盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

【题目】下列实验方法正确的是（ ）
A.用加热、蒸发的方法除去粗盐中的CaCl2、MgCl2等杂质
B.用过滤的方法除去NaCl溶液中含有的少量淀粉胶体
C.用溶解、过滤的方法提纯含有少量BaSO4的BaCO3
D.用丁达尔现象区分溶液与胶体

A. MgO B. Na2O2 C. Al2O3 D. Fe2O3

A. 纯碱、液态氧、碘酒 B. 生石灰、单晶硅、熟石灰

C. 干冰、铜、氨气 D. 空气、氮气、明矾