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(09盐城第三次调研)BaCl2?2H2O 和(CH3COO)2Ba?H2O均是重要的媒染剂。下列有关说法正确的是
A.乙酸钡溶液中离子浓度从大到小的顺序为:c(CH3COO-)>c(Ba2+)>c(OH-)>c(H+)
B.乙酸钡溶液中:2c(Ba2+)= c(CH3COO-)+c(CH3COOH)
C.若乙酸钡和氯化钡两种溶液中c(Cl-) =c(CH3COO-),则这两种溶液中钡离子浓度也相同
D.相同浓度、相同体积的盐酸和醋酸溶液用相同浓度Ba(OH)2溶液滴定,至pH=7时消耗Ba(OH)2溶液的体积前者等于后者
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(09盐城第三次调研)O3是重要的氧化剂和水处理剂,在平流层存在:2O33O2,2O3O+O2。粒子X能加速O3的分解:X + O3 = XO + O2;XO + O = X + O2(X=Cl、Br、NO、OH等)。已知:2O3(g) 3O2(g)
△H=-144.8kJ/mol,t℃时K=3×1076。下列说法不正确的是
A.臭氧层中氟里昂释放出的氯原子是O3分解的催化剂
B.高压放电条件下O2可以生成O3
C.O3转变为O2能量曲线可用右图表示
D.t℃时,3O2(g) 2O3(g),K≈3.33×10-77
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(08年广东卷)某些高分子催化剂可用于有机合成。下面是一种高分子催化剂(Ⅶ)合成路线的一部分(Ⅲ和Ⅵ都是Ⅶ的单体;反应均在一定条件下进行;化合物Ⅰ-Ⅲ和Ⅶ中含N杂环的性质类似于苯环):
回答下列问题:
(1)写出由化合物Ⅰ合成化合物Ⅱ的反应方程式 _________ (不要求标出反应条件)。
(2)下列关于化合物Ⅰ、Ⅱ和Ⅲ的说法中,正确的是______ (填字母)。
A.化合物Ⅰ可以发生氧化反应
B.化合物Ⅰ与金属钠反应不生成氢气
C.化合物Ⅱ可以发生水解反应
D.化合物Ⅲ不可以使溴的四氯化碳深液褪色
E.化合物Ⅲ属于烯烃类化合物
(3)化合物Ⅵ是_____ (填字母)类化合物。
A.醇 B.烷烃 C.烯烃 D.酸 E.酯
(4)写出2种可鉴别V和M的化学试剂______ 。
(5)在上述合成路线中,化合物Ⅳ和V在催化剂的作用下与氧气反应生成Ⅵ和水,写出反应方程式 _______ (不要求标出反应条件)
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(09盐城第三次调研)下列说法正确的是
A.漂白粉必须闭封保
B.金属钠着火可用液态二氧化碳灭火器扑灭
C.除去FeCl2中少量的FeBr2,加入适量氯水,再加四氯化碳萃取分液
D.配制硫酸亚铁溶液时,需将FeSO4?7H2O先溶于硝酸再用蒸馏水稀释,最后加少量铁粉
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(08年广州卷)科学家一直致力研究常温、常压下“人工围氮”的新方法。曾有实验报道:在常温、常压、学照条件下,N2在催化剂(掺有少量Fe2O3的TiO2)表面与水发生反应,生成的主要产物为NH3。进一步研究NH3生成量与温度的关系,部分实验数据见下表(光照、N2压力1.0×105Pa、反应时间3 h):
T/K | 303 | 313 | 323 | 353 |
NH3生成量/(10-6mol) | 4.8 | 5.9 | 6.0 | 2.0 |
相应的热化学方程式如下:
N2(g)+3H2O(1)=2NH3(g)+O2(g) ΔH=+765.2kJ?mol-1
回答下列问题:
(1) 请在答题卡的坐标图中画出上述反应在有催化剂与无催化剂两种情况下反应过程中体系能量变化示意图,并进行必要标注。
(2) 与目前广泛使用的工业合成氨方法相比,该方法中固氮反应速率慢。请提出可提高其反应速率且增大NH3生成量的建议: (3) 工业合成氨的反应为N2(g)+3H2(g) 2NH3(g)。设在容积为2.0L的密闭容器中充入0.60mol N2(g)和1.60 mol H2(g),.反应在一定条件下达到平衡时,NH3的物质的量分数(NH2的物质的量与反应体系中总的物质的量之比)为。计算:
① 该条件下N2的平衡转化率;
②该条件下反应2NH3(g) N2(g)+3H2(g)的平衡常数。
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(09盐城第三次调研)日本产业技术综合研究所最近研发了一种新型的锂空气电池,它既可用作充电电池又可作锂燃料电池。用作燃料电池时,可更换正极的水性电解液和卡盒以及负极的金属锂就可以连续使用,分离出的氢氧化锂可回收锂而循环使用。下列叙述不正确的是
A.放电时负极的电极反应式为:Li-e- = Li+
B.充电时,阳极的电极反应式为:2H2O+O2+4e-=4OH
C.充电时,锂极与外电源的负极相连
D.熔融的氢氧化锂用惰性电极电解再生时,在阴极可得到金属锂
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(08年广东卷)科学家一直致力研究常温、常压下“人工围氮”的新方法。曾有实验报道:在常温、常压、学照条件下,N2在催化剂(掺有少量Fe2O3的TiO2)表面与水发生反应,生成的主要产物为NH3。进一步研究NH3生成量与温度的关系,部分实验数据见下表(光照、N2压力1.0×105Pa、反应时间3 h):
T/K | 303 | 313 | 323 | 353 |
NH3生成量/(10-6mol) | 4.8 | 5.9 | 6.0 | 2.0 |
相应的热化学方程式如下:
N2(g)+3H2O(1)=2NH3(g)+O2(g) ΔH=+765.2kJ?mol-1
回答下列问题:
(1)请在答题卡的坐标图中画出上述反应在有催化剂与无催化剂两种情况下反应过程中体系能量变化示意图,并进行必要标注。
(2)与目前广泛使用的工业合成氨方法相比,该方法中固氮反应速率慢。请提出可提高其反应速率且增大NH3生成量的建议:_________。
(3)工业合成氨的反应为N2(g)+3H2(g) 2NH3(g)。设在容积为2.0L的密闭容器中充入0.60mol N2(g)和1.60 mol H2(g),.反应在一定条件下达到平衡时,NH3的物质的量分数(NH2的物质的量与反应体系中总的物质的量之比)为。计算
① 该条件下N2的平衡转化率;
②该条件下反应2NH3(g) N2(g)+3H2(g)的平衡常数。
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(09盐城第三次调研)在下列溶液中,一定能够大量共存的离子组是
A.加入苯酚显紫色的溶液:Na+、Mg2+、Cl-、SO42-
B.加入金属铝能放出大量H2的溶液:NH4+、K+、HCO3-、CH3COO-
C.使淀粉碘化钾试纸变蓝的溶液: Cu2+、Ba2+、S2-、I-
D.加入金属铁能放出大量H2的溶液:Na+、Al3+、ClO-、NO3-
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(08年广东卷)硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:
制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式________。
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式____;H2还原SihCl3过程中若混02,可能引起的后果是______ 。
(2)下列有头硅材料的详法正确的是_____ (填字母)。
A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水混
B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承
C.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂的,其熔点很高
D.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
E.盐酸可以和硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,振荡。写出实验现象并给予解释_____。
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