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如图所示,导体框放置在垂直于框架平面的匀强磁场中,磁感应强度为0.24 T,框架中的电阻R1=3 Ω,R2=2 Ω,其余部分电阻均不计,框架的上下宽度为0.5 m,金属导体AB与框架接触良好,当导体AB以5 m/s速度匀速向右沿着导体框移动时,

求:(1)所需外力F多大?

(2)通过R2上的电流I2是多少?方向如何?

(1)E=BLv=0.6 V

R==1.2 Ω

I==0.5 A

F=BIL=0.06 N

由于AB匀速运动,受力平衡,所以所需外力为0.06 N.

(2)I2==0.3 A

方向从上向下流过R2

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如图所示导体框中电流为I,导体框垂直于磁场放置,磁场磁感应强度为B,AB与CD相距为d,则在图甲、乙两种情况下,导体棒MN和MON受到的安培力为
垂直于MN斜向下
垂直于MN斜向下
垂直于MN向右
垂直于MN向右
(图乙中MN连线垂直于框架AB、CD)

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(2)维持导体棒ab做匀速运动的外力F的大小.

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如图所示导体框中电流为I,导体框垂直于磁场放置,磁场磁感应强度为B,AB与CD相距为d,则在图甲、乙两种情况下,导体棒MN和MON受到的安培力为______、______(图乙中MN连线垂直于框架AB、CD)
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如图所示导体框中电流为I,导体框垂直于磁场放置,磁场磁感应强度为B,AB与CD相距为d,则在图甲、乙两种情况下,导体棒MN和MON受到的安培力为        (图乙中MN连线垂直于框架AB、CD)

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