6．如图所示为半径R=0.50m的四分之一圆弧轨道，底端距水平地面的高度h=0.45m．一质量m=1.0kg的小滑块从圆弧轨道顶端A由静止释放，到达轨道底端B点的速度v=2.0m/s．忽略空气的阻力．取g=10m/s²．求：
（1）小滑块由A到B的过程中，克服摩擦力所做的功W；
（2）小滑块落地点与B点的水平距离x．

5．在利用重锤下落验证机械能守恒定律的实验中：
（1）下面叙述正确的是BD
A、应该用天平称出物体的质量．
B、应该选用点迹清晰，第一、二两点间的距离接近2mm的纸带．
C、操作时应先放纸带再通电．
D、打点计时器应接在电压为4～6V的交流电源上．
（2）有下列器材可供选用：铁架台，打点计时器，复写纸，纸带，秒表，低压直流电源，导线，电键，天平．其中不必要的器材有秒表、低压直流电源、天平；缺少的器材是低压交流电源、重锤、刻度尺．．
（3）实验中用打点计时器打出的纸带如图所示，其中，A为打下的第1个点，C、D、E、F为距A较远的连续选取的四个点（其他点子未标出）．用刻度尺量出C、D、E、F到A的距离分别为s₁=20.06cm，s₂=24.20cm，s₃=28.66cm，s₄=33.60cm重锤的质量为m=1.00kg；电源的频率为f=50Hz；实验地点的重力加速度为g=9.80m/s²．为了验证打下A点到打下D点过程中重锤的机械能守恒．则应计算出：
打下D点时重锤的速度v=$\frac{（{s}_{3}-{s}_{1}）f}{2}$（文字表达式）=2.15m/s，
重锤重力势能的减少量△E_p=mgs₂（文字表达式）=2.372J，
重锤动能的增加量△E_k=$\frac{1}{2}m{v}^{2}$（文字表达式）=2.311J．

4．下列说法中正确的是（　　）

	A．	机械波和电磁波都能发生反射、折射、干涉和衍射现象，而且它们都可以在真空中传播
	B．	变化的电场一定产生变化的磁场，变化的磁场一定产生变化的电场
	C．	电磁波是横波
	D．	麦克斯韦预言了电磁波的存在并通过实验进行了验证

3．高中物理必修（Ⅱ）《曲线运动》一章中，某兴趣小组在“研究平抛物体的运动”实验时，其中李子木同学，以轨迹上A点为坐标原点，建立了如图所示的坐标系，再选取了轨迹上B、C两点，数值如图标注．那么请你帮他完成，小球平抛的初速度为1.5m/s，小球抛出点的坐标为（-30cm，-20cm）．（取g=10m/s²）

2．若一定质量的理想气体分别按图所示的三种不同过程变化，其中表示等压变化的是C（填“A”“B”或“C”），该过程中气体内能增大（填“增加”“减少”或“不变”）．

1．如图所示，A、B两容器容积相等，用粗细均匀的细玻璃管相连，两容器内装有不同气体，细管中央有一段水银柱，在两边气体作用下保持平衡时，A中气体的温度为0℃，B中气体温度为20℃，如果将它们的温度都降低10℃，那么水银柱将（　　）

A．

向A移动

B．

向B移动

C．

不动

D．

不能确定

20．物体做匀加速直线运动，在时间T内通过位移x₁到达A点，接着在时间T内又通过位移x₂到达B点，则物体（　　）

	A．	在A点的速度大小为$\frac{{{x_2}-{x_1}}}{2T}$		B．	在B点的速度大小为$\frac{3{x}_{2}-{x}_{1}}{2T}$
	C．	运动的加速度为$\frac{2{x}_{1}}{{T}^{2}}$		D．	运动的加速度为$\frac{{x}_{1}+{x}_{2}}{{T}^{2}}$

19．如图所示，在匀速转动的水平圆盘上，沿半径方向放着用细线相连的质量相等的两个物体A和B，它们与盘间的摩擦因数相同，当圆盘转动到两个物体刚好还未发生滑动时，烧断细线，下列说法中正确的是（　　）

	A．	两个物体刚好还未发生滑动时，两物体所受的摩擦力均为最大静摩擦力
	B．	烧断细线，两物体沿切向方向滑动
	C．	烧断细线，物体B仍随圆盘一起做匀速圆周运动，物体A发生滑动，离圆盘圆心越来越远
	D．	烧断细线，两物体仍随圆盘一起做圆周运动，不发生滑动

18．如图所示，一重力不计的带电粒子以初速度v₀射入水平放置、距离为d的两平行金属板，射入方向沿两极板的中心线，当极板所加电压为U₁时，粒子落在A板上的P点，如果将带电粒子的初速度变为2v₀，同时将A板向上移动$\frac{d}{2}$后，使粒子由原入射点射入后仍落在P点，则极板间所加电压U₂为（　　）

A．

U2=3U1

B．

U2=6U1

C．

U2=8U1

D．

U2=12U1

17．a、b两种单色光以相同的入射角从某种介质射向空气，光路如图所示，则下列说法正确的是（　　）

	A．	逐渐增大入射角α的过程中，a光先发生全反射
	B．	在该介质中b光的传播速度大于a光的传播速度
	C．	在该介质中a光的波长小于b光的波长
	D．	通过同一双缝干涉装置，a光的干涉条纹间距比b光的宽