在无土栽培中，配制一定量含2.675KgNH₄Cl、1.192KgKCl和4.176KgK₂SO₄的营养液．若用KCl、NH₄Cl和（NH₄）₂SO₄三种固体为原料来配制，三者的质量依次是Kg，Kg，Kg．

在上海世博园江苏馆的“春华秋实”展区，用东海水晶雕出的作品《寄畅园之冬》吸引了众多参观者的眼球．东海县是国家火炬计划硅材料产业化基地，产品有晶莹剔透的水晶制品，更有用途广泛的石英砂、石英玻璃、硅微粉等硅的系列产品．其中石英砂（主要成分为SiO₂）是制取高纯硅的主要原料，高纯硅又是制造计算机芯片的主要原料．资料卡：制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷（SiHCl₃）还原法是当前制备高纯硅的主要方法．
①SiO₂+2C

3000℃  .

Si（粗）+2CO↑
②Si（粗）+3HCl

300℃以上  .

SiHCl₃+H₂
③SiHCl₃+H₂

高温  .

Si（纯）+3HCl   
其生产过程示意如图所示：

请你自学上述资料后，回答下列问题：
（1）由石英砂制得高纯硅的反应原理中，属于置换反应的是（填数字代号）．
（2）粗硅提纯必须在无氧的氛围中进行，除了考虑到硅易被氧化成二氧化硅外，还有一个原因是．
（3）生产过程示意图中的“物质A”用水吸收，可得副产品（一种常见的酸）的名称是．
（4）作为电器、电子、光纤等行业原料的石英砂纯度要求高，需要对普通石英砂（含有少量的Fe₂O₃等杂质）进行提纯，其中酸洗（用盐酸）和高纯水洗是两个重要的步骤．请写出酸洗步骤的一个反应的化学方程式：；判断高纯水洗是否洗净的方法是取少量最后的洗涤液于试管中，向其中滴加AgNO₃溶液，若，则表明残留物已洗净；否则，表明残留物未洗净．
（5）在上述工艺流程中，除了HCl可参与循环使用，还有参与了循环使用．

目前，计算机已进入千家万户．制造计算机的芯片需要大量的高纯硅，生产高纯硅的主要原料是沙子（主要成分为SiO₂）．二氧化硅既不溶于水，也不溶于一般的酸溶液．
工业上生产高纯硅的主要过程示意图如下：
其主要反应原理为：
①SiO₂+2C

3000℃  .

Si（粗）+2CO      ②Si（粗）+2Cl₂

400～500℃  .

SiCl₄
③SiCl₄+2H₂ 

高温  .

Si（纯）+4HCl
请你根据上述材料，回答下列问题：
（1）由沙子制得高纯硅的反应原理中，属于化合反应的是填数字代号，下同），属于置换反应的是．
（2）由粗硅提纯得到高纯硅必须在无氧的氛围中进行，除了考虑到硅易被氧化成二氧化硅外，还有一个原因是．
（3）生产过程示意图中的“物质A”用水吸收，可得副产品（一种常见的酸）的名称是．
（4）作为电器、电子、光纤等行业用高纯硅原料的沙子，纯度要求高，需要对普通沙子（含有少量的CaCO₃、Fe₂O₃）进行提纯，其中用酸洗（用盐酸）和高纯水洗是两个最重要的步骤．请写出酸洗步骤中的两个反应的化学方程式分别是、；判断用高纯水洗是否洗净的方法是：取少量最后的洗涤液于试管中，向其中滴加AgNO₃溶液和稀硝酸，若无现象，则表明残留物已洗净；否则，表明残留物未洗净．

7、下列不属于通常燃烧必须具备的条件是（　　）