23.图甲中bacd为导体作成的框架.其平面与水平面成θ角.质量为m的导体棒PQ与ab.cd接触良好.回路的电阻为R.整个装置放于垂直于框架平面的变化的磁场中.磁感应强度的变化如图乙.PQ始终静止.在0-ts内.PQ受到的摩擦力的变化情况可能是( ) A.f一直增大 B.f一直减小 C.f先减小后增大 D.f先增大后减小 查看更多

 

题目列表(包括答案和解析)

图甲中bacd为导体作成的框架,其平面与水平面成θ角。质量为m的导体棒PQabcd接触良好,回路的总电阻为R,整个装置放于垂直于框架平面的变化的磁场中,磁感应强度的变化如图乙所示。已知PQ始终静止,则在0~t0s内,PQ受到的摩擦力f的变化情况可能是

A.f一直增大

B.f一直减小

C.f先减小后增大

D.f先增大后减小

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图甲中bacd为导体作成的框架,其平面与水平面成θ角,质量为m的导体棒PQ与ab、cd接触良好,回路的电阻为R,整个装置放于垂直于框架平面的变化的磁场中,磁感应强度的变化如图乙,PQ始终静止,在0-ts内,PQ受到的摩擦力的变化情况可能是:

A.f一直增大

B.f一直减小

C.f先减小后增大

D.f先增大后减小

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