如图12-11甲所示,用裸导体做成U形框架abcd,ad与bc相距L=0.2 m,其平面与水平面成θ=30°角.质量为m=1 kg的导体棒PQ与ad.bc接触良好,回路的总电阻为R=1 Ω.整个装置放在垂直于框架平面的变化磁场中,磁场的磁感应强度B随时间t的变化情况如图乙所示(设图甲中B的方向为正方向).t=0时,B0=10 T.导体棒PQ与cd的距离x0=0.5 m.若PQ始终静止,关于PQ与框架间的摩擦力大小在0-t1=0.2 s时间内的变化情况,下面判断正确的是( ) 图12-11 A.一直增大 B.一直减小 C.先减小后增大 D.先增大后减小 解析:由图乙,,t=0时,回路所围面积S=Lx0=0.1 m2,产生的感应电动势,,安培力F=B0IL=10 N,方向沿斜面向上.而下滑力mgsin30°=5 N,小于安培力,故刚开始摩擦力沿斜面向下.随着安培力减小,沿斜面向下的摩擦力也减小,当安培力等于下滑力时,摩擦力为零.安培力再减小,摩擦力变为沿斜面向上且增大,故选项C对. 答案:C 查看更多

 

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如图12-11甲所示,用裸导体做成U形框架abcd,adbc相距L=0.2 m,其平面与水平面成θ=30°角.质量为m=1 kg的导体棒PQadbc接触良好,回路的总电阻为R=1 Ω.整个装置放在垂直于框架平面的变化磁场中,磁场的磁感应强度B随时间t的变化情况如图乙所示(设图甲中B的方向为正方向).t=0时,B0=10 T、导体棒PQcd的距离x0=0.5 m.若PQ始终静止,关于PQ与框架间的摩擦力大小在0~t1=0.2 s时间内的变化情况,下面判断正确的是(  )

图12-11

A.一直增大                  B.一直减小                  C.先减小后增大                  D.先增大后减小

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如图12-11甲所示,用裸导体做成U形框架abcd,adbc相距L="0.2" m,其平面与水平面成θ=30°角.质量为m="1" kg的导体棒PQadbc接触良好,回路的总电阻为R="1" Ω.整个装置放在垂直于框架平面的变化磁场中,磁场的磁感应强度B随时间t的变化情况如图乙所示(设图甲中B的方向为正方向).t=0时,B0="10" T、导体棒PQcd的距离x0="0.5" m.若PQ始终静止,关于PQ与框架间的摩擦力大小在0~t1="0.2" s时间内的变化情况,下面判断正确的是(  )

图12-11
A.一直增大B.一直减小C.先减小后增大D.先增大后减小

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如图12-11甲所示,用裸导体做成U形框架abcd,ad与bc相距L="0.2" m,其平面与水平面成θ=30°角.质量为m="1" kg的导体棒PQ与ad、bc接触良好,回路的总电阻为R="1" Ω.整个装置放在垂直于框架平面的变化磁场中,磁场的磁感应强度B随时间t的变化情况如图乙所示(设图甲中B的方向为正方向).t=0时,B0="10" T、导体棒PQ与cd的距离x0="0.5" m.若PQ始终静止,关于PQ与框架间的摩擦力大小在0~t1="0.2" s时间内的变化情况,下面判断正确的是

图12-11


  1. A.
    一直增大
  2. B.
    一直减小
  3. C.
    先减小后增大
  4. D.
    先增大后减小

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