用化学式填空:由H.O.C.Na组成的常见化合物中.属于酸性氧化物的是 .属于无机含氧酸的是 .属于碱的是 .属于有机物的是 , 已知反应 ① SO3 + H2O = H2SO4 ② Cl2 + H2O = HCl + HClO ③ 2F2 + 2H2O = 4HF + O2 ④2Na + 2H2O = 2NaOH + H2↑ ⑤ 2Na2O2 + 2H2O = 4NaOH + O2↑ ⑥ SiO2 + 2NaOH = Na2SiO3 + H2O (1)上述反应中属于置换反应的是 (2)上述反应中不属于氧化还原反应的是 .H2O 作氧化剂的是 .H2O 作还原剂的是 .属于氧化还原反应.但其中H2O 既不作氧化剂也不做还原剂的是 . (3)标出方程式 ③ 中电子转移的方向和数目 查看更多

 

题目列表(包括答案和解析)

短周期主族元素A、B、C、D、E、F的原子序数依次增大,它们的原子核外电子层数之和为13.B的化合物种类繁多,数目庞大;C、D是空气中含量最多的两种元素,D、E两种元素的单质反应可以生成两种不同的离子化合物;F为同周期半径最小的元素.试回答以下问题:
(1)写出D与E以1:1的原子个数比形成的化合物的电子式:
.F的原子结构示意图为

(2)B、D形成的化合物BD2中存在的化学键为
共价
共价
键(填“离子”或“共价”,下同).A、C、F三种元素形成的化合物CA4F为
离子
离子
化合物.
(3)化合物甲、乙由A、B、D、E中的三种或四种组成,且甲、乙的水溶液均呈碱性.则甲、乙反应的离子方程式为
OH-+HCO3-═CO32-+H2O
OH-+HCO3-═CO32-+H2O

(4)A、C、D、E的原子半径由大到小的顺序是
Na>N>O>H
Na>N>O>H
(用元素符号表示).
(5)元素B和F的非金属性强弱,B的非金属性
于F(填“强”或“弱”),并用化学方程式证明上述结论
Na2CO3+2HClO4═CO2↑+H2O+2NaClO4
Na2CO3+2HClO4═CO2↑+H2O+2NaClO4

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I.(1)CH3OH(1)、H2的燃烧热分别为:725.5 kJ/mol和285.8 kJ/mol,写出工业上以CO2、H2合成CH3OH(1)的热化学方程式:                 

   (2)右图为光电解水的装置,写出光照时半导体电极表面发生的电极反应式________。目前应用最多的半导体材料是Si,甚至有人提出硅是“21世纪的能源”,硅可作为新能源的原因可能的是         (填字母)。

a.在自然界中存在大量的单质硅 

b.硅可以通过化学方法“再生”

c.硅具有较强的亲氧性,燃烧放出的热量多

    d.硅的化学性质不活泼,便于安全贮存、运输

II.将0.2mol/L HA溶液与O.lmol/L NaOH溶液等体积混合,测得混合溶液c(Na+)>c(A),

用“>”、“<”或“=”填写下列空白:

  (1)混合溶液中c(A)____c(HA);c(HA)+c(A)__0.lmol/L;

  (2)混合溶液中,由水电离出来的c(OH     0.2mol/L HA溶液中由水电离出的c(H+

  (3)25℃时,如果取0.2mol/L HB溶液与0.lmol/L NaOH溶液等体积混合,测得混合溶液的pH <7,则HB的电离程度       NaB的水解程度。

 

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I.(1)CH3OH(1)、H2的燃烧热分别为:725.5 kJ/mol和285.8 kJ/mol,写出工业上以CO2、H2合成CH3OH(1)的热化学方程式:                 

   (2)右图为光电解水的装置,写出光照时半导体电极表面发生的电极反应式________。目前应用最多的半导体材料是Si,甚至有人提出硅是“21世纪的能源”,硅可作为新能源的原因可能的是         (填字母)。

a.在自然界中存在大量的单质硅 

b.硅可以通过化学方法“再生”

c.硅具有较强的亲氧性,燃烧放出的热量多

    d.硅的化学性质不活泼,便于安全贮存、运输

II.将0.2mol/L HA溶液与O.lmol/L NaOH溶液等体积混合,测得混合溶液c(Na+)>c(A),

用“>”、“<”或“=”填写下列空白:

  (1)混合溶液中c(A)____c(HA);c(HA)+c(A)__0.lmol/L;

  (2)混合溶液中,由水电离出来的c(OH     0.2mol/L HA溶液中由水电离出的c(H+

  (3)25℃时,如果取0.2mol/L HB溶液与0.lmol/L NaOH溶液等体积混合,测得混合溶液的pH <7,则HB的电离程度      NaB的水解程度。

 

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I.(1)CH3OH(1)、H2的燃烧热分别为:725.5 kJ/mol和285.8 kJ/mol,写出工业上以CO2、H2合成CH3OH(1)的热化学方程式:                 
(2)右图为光电解水的装置,写出光照时半导体电极表面发生的电极反应式________。目前应用最多的半导体材料是Si,甚至有人提出硅是“21世纪的能源”,硅可作为新能源的原因可能的是        (填字母)。

a.在自然界中存在大量的单质硅 
b.硅可以通过化学方法“再生”
c.硅具有较强的亲氧性,燃烧放出的热量多
d.硅的化学性质不活泼,便于安全贮存、运输
II.将0.2mol/L HA溶液与O.lmol/L NaOH溶液等体积混合,测得混合溶液c(Na+)>c(A),
用“>”、“<”或“=”填写下列空白:
(1)混合溶液中c(A)____c(HA);c(HA)+c(A)__0.lmol/L;
(2)混合溶液中,由水电离出来的c(OH    0.2mol/L HA溶液中由水电离出的c(H+
(3)25℃时,如果取0.2mol/L HB溶液与0.lmol/L NaOH溶液等体积混合,测得混合溶液的pH <7,则HB的电离程度      NaB的水解程度。

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I.(1)CH3OH(1)、H2的燃烧热分别为:725.5 kJ/mol和285.8 kJ/mol,写出工业上以CO2、H2合成CH3OH(1)的热化学方程式:                 
(2)右图为光电解水的装置,写出光照时半导体电极表面发生的电极反应式________。目前应用最多的半导体材料是Si,甚至有人提出硅是“21世纪的能源”,硅可作为新能源的原因可能的是        (填字母)。

a.在自然界中存在大量的单质硅 
b.硅可以通过化学方法“再生”
c.硅具有较强的亲氧性,燃烧放出的热量多
d.硅的化学性质不活泼,便于安全贮存、运输
II.将0.2mol/L HA溶液与O.lmol/L NaOH溶液等体积混合,测得混合溶液c(Na+)>c(A),
用“>”、“<”或“=”填写下列空白:
(1)混合溶液中c(A)____c(HA);c(HA)+c(A)__0.lmol/L;
(2)混合溶液中,由水电离出来的c(OH    0.2mol/L HA溶液中由水电离出的c(H+
(3)25℃时,如果取0.2mol/L HB溶液与0.lmol/L NaOH溶液等体积混合,测得混合溶液的pH <7,则HB的电离程度      NaB的水解程度。

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