13.SiO2 Na2SiO3 CO2 H4SiO4 H2SiO3 查看更多

 

题目列表(包括答案和解析)

.某科研小组用高岭土(主要成分是Al2O3?2SiO2?2H2O,并含少量CaO、Fe2O3)研制新型净水剂(铝的化合物).试验流程如下:

请回答下列问题:
(1)已知Al2O3、SiO2与纯碱的反应相似.用化学方程式表示熔融时高岭土主要成分与纯碱发生反应的化学方程式
Na2CO3+Al2O3
 高温 
.
 
2NaAlO2+CO2↑、
Na2CO3+Al2O3
 高温 
.
 
2NaAlO2+CO2↑、

Na2CO3+SiO2
 高温 
.
 
Na2SiO3+CO2
Na2CO3+SiO2
 高温 
.
 
Na2SiO3+CO2

(2)在熔融高岭土与纯碱试样时,最好选用下列哪种仪器
A
A
(填写编号)
A.铁坩埚    B.瓷坩埚     C.氧化铝坩埚     D.玻璃坩埚
(3)写出上述过程中,最后得到的沉淀M的化学式
H4SiO4(或H2SiO3
H4SiO4(或H2SiO3

查看答案和解析>>

硅单质及其化合物应用范围很广.
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,工业上可以按如下步骤制备高纯硅.
Ⅰ.高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅;
Ⅱ.粗硅与干燥的氯气在450~500℃条件下反应制得SiCl4
Ⅲ.SiCl4液体经精馏提纯后与过量H2在1 100~1 200℃条件下反应制得高纯硅.
已知SiCl4沸点为57.6℃,能与H2O强烈反应.1mol H2与SiCl4气体完全反应吸收的热量为120.2kJ.
请回答下列问题:
①第Ⅲ步反应的热化学方程式为
2H2(g)+SiCl4(g)
 1100-1200℃ 
.
 
Si(s)+4HCl(g)△H=+240.4kJ?mol-1
2H2(g)+SiCl4(g)
 1100-1200℃ 
.
 
Si(s)+4HCl(g)△H=+240.4kJ?mol-1

②整个制备纯硅的过程中必须严格控制在无水无氧的条件下.SiCl4在潮湿的空气中因水解而产生白色烟雾,其生成物是
H2SiO3(或H4SiO4)和HCl
H2SiO3(或H4SiO4)和HCl
;H2还原SiCl4过程中若混入O2,可能引起的后果是
爆炸
爆炸

(2)二氧化硅被大量用于生产玻璃.工业上用SiO2、Na2CO3和CaCO3共283kg在高温下完全反应时放出CO2 44kg,生产出的玻璃可用化学式Na2SiO3?CaSiO3?xSiO2表示,则其中x=
4
4

查看答案和解析>>


同步练习册答案