水平放置的金属框架cdef处于如图1所示的匀强磁场中.金属棒ab置于光滑的框架上且接触良好.从某时刻开始磁感应强度均匀增加.现施加一外力使金属棒ab保持静止.则金属棒ab受到的安培力是( ) A.——青夏教育精英家教网—

水平放置的金属框架cdef处于如图1所示的匀强磁场中.金属棒ab置于光滑的框架上且接触良好.从某时刻开始磁感应强度均匀增加.现施加一外力使金属棒ab保持静止.则金属棒ab受到的安培力是( ) A.方向向右.且为恒力 B.方向向右.且为变力 C.方向向左.且为变力 D.方向向左.且为恒力【查看更多】

题目列表(包括答案和解析)

水平放置的金属框架cdef，处于如图所示的匀强磁场中．金属棒ab置于光滑的框架上且接触良好．从某时刻开始abde中的磁通量均匀增加时ab棒中产生由b到a的感应电流，现施加一外力使金属棒ab保持静止，则金属棒ab受到的外力是（　　）

A．方向向右，且为恒力

B．方向向左，且为恒力

C．方向向右，且为变力

D．方向向左，且为变力

（2013?虹口区二模）如图所示，匀强磁场竖直向上穿过水平放置的金属框架，框架宽L，足够长且电阻不计，右端接有电阻R．磁场的磁感强度为B．一根质量为m，电阻不计的金属棒以v₀的初速沿框架向左运动．棒与框架间的动摩擦因数为μ．测得棒在整个运动过程中，通过电阻的电量为q，则棒能运动的距离为

，电阻R上消耗的电能为

μmgqR

．

水平放置的金属框架cdef处于如图所示的匀强磁场中，金属棒ab置于粗糙的框架上且接触良好，从某时刻开始，磁感应强度均匀增大，金属棒ab始终保持静止，则（　　）

A、ab中电流增大，ab棒所受摩擦力也增大

B、ab中电流不变，ab棒所受摩擦力也不变

C、ab中电流不变，ab棒所受摩擦力增大

D、ab中电流增大，ab棒所受摩擦力不变

如图所示，匀强磁场竖直向上穿过水平放置的金属框架，框架宽L，右端接有电阻R．磁场的磁感强度为B．一根质量为m，电阻不计的金属棒以v₀的初速沿框架向左运动．棒与框架间的动摩擦因数为μ．测得棒在整个运动过程中，通过任一截面的电量为Q．求：
（1）棒能运动的距离．
（2）R上消耗的电能．

水平放置的金属框架cdef处于如图的匀强磁场中，金属棒ab置于粗糙的框架上且接触良好．从某时刻开始，磁感应强度均匀增大，金属棒ab始终保持静止，则（）

A．ab中电流增大，ab棒所受摩擦力也增大

B．ab中电流不变，ab棒所受摩擦力也不变

C．ab中电流不变，ab棒所受摩擦力增大

D．ab中电流增大，ab棒所受摩擦力不变

同步练习册答案