高纯硅常用于电子工业.制备纯硅反应的热化学方程式如下: SiCl4(g)+2H2(g)Si,△H= +QkJ/mol 某温度.压强下.只将一定量反应物通入2L的密闭容器进行以上反应.下列叙述不正确的是 A.寻找性质优良的催化剂.适当降低反应所吸收的能量 B.若反应开始投入H2为1mol.则达平衡时.吸收热量为0.5QkJ C.反应至4min时.若HCl为0.24mol.则H2的反应速率为0.015mol/(Lmin) D.当反应吸热0.5QkJ时.生成的HCl通入1 L 2mol/L的NaOH溶液恰好反应 查看更多

 

题目列表(包括答案和解析)

“材料”的发现和使用往往会极大地推动生产、生活的发展,一些材料的出现甚至具有里程碑式划时代的意义.请你回答以下问题:
(1)无机非金属材料.高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料,又称“半导体”材料,它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”.这种材料可以按下列方法制备:
SiO2
①C
高温
Si(粗)
②HCl
℃300
SiHCl3
③过量H2
1000℃~1100℃
Si(纯)
写出步骤①的化学方程式
SiO2+2C
 高温 
.
 
Si+2CO↑
SiO2+2C
 高温 
.
 
Si+2CO↑

(2)磁性材料.这种材料一般含有铁元素,铁以化学性质活泼用途广泛而著称.其中在工业上常用于印刷电路板工业,请写出反应的离子方程式
Cu+2Fe3+=Cu2++2Fe2+
Cu+2Fe3+=Cu2++2Fe2+

(3)激光材料.我国是激光技术先进的国家,红宝石(Al2O3)是最早用于产生激光的材料,它是一种两性氧化物,请用离子方程式加以说明:
Al2O3+6H+═2Al3++3H2O、Al2O3+2OH-=2AlO2-+H2O
Al2O3+6H+═2Al3++3H2O、Al2O3+2OH-=2AlO2-+H2O

(4)纳米材料.胶体是一种物质以“纳米”颗粒的形式分散到另一种物质里形成的分散系,区分胶体和溶液最经典的方法是
丁达尔现象
丁达尔现象

(5)高分子材料.可以分成无机高分子材料和有机高分子材料.已知乙醇是有机高分子材料合成过程中的重要物质,请写出工业上以乙烯为原料制乙醇的化学方程式
CH2=CH2+H20
催化剂
加热
CH3CH2OH
CH2=CH2+H20
催化剂
加热
CH3CH2OH

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工业上电解饱和食盐水能制取多种化工原料,其中部分原料可用于制备多晶硅。

(1) 右图是离子交换膜法电解饱和食盐水示意图,电解槽阳极产生的气体是     ; NaOH溶液的出口为______ (填字母);精制饱和食盐水的进口为_____ (填字母);干燥塔中使用的液体干燥剂是____(每空2分)。

(2) 原料粗盐中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等杂质,必须精制后才能供电解使用。精制时,粗盐溶于水过滤后,还要加人的试剂分别为①Na2CO3、②HCl(盐酸)、③BaCl2,这3种试剂添加的合理顺序是     (2分)(填序号)。

(3) 多晶硅主要采用SiHCl3还原工艺生产,其副产物SiCl4的综合利用受到广泛关注SiCl4可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同),方法为高温下SiCl4与H2和O2反应,产物有两种,化学方程式为                          也可转化为而循环使用。一定条件下,在200C恒容密闭容器中发生反应: ,达平衡后,H2与SiHCL3物质的量浓度分别为0. 140mol/L和0. 020mol/L,若H2全部来源于离子交换膜法的电解产物,理论上需消耗纯NaCl的物质的量为_______ mol。

(4)已知1 g阴极产生的气体在阳极产生的气体中完全燃烧时放出92. 3 kj的热量,则该反应的热化学方程式为:                                    

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工业上电解饱和食盐水能制取多种化工原料,其中部分原料可用于制备多晶硅。

(1) 右图是离子交换膜法电解饱和食盐水示意图,电解槽阳极产生的气体是     ; NaOH溶液的出口为______ (填字母);精制饱和食盐水的进口为_____ (填字母);干燥塔中使用的液体干燥剂是____(每空2分)。

(2) 原料粗盐中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等杂质,必须精制后才能供电解使用。精制时,粗盐溶于水过滤后,还要加人的试剂分别为①Na2CO3、②HCl(盐酸)、③BaCl2,这3种试剂添加的合理顺序是     (2分)(填序号)。

(3) 多晶硅主要采用SiHCl3还原工艺生产,其副产物SiCl4的综合利用受到广泛关注SiCl4可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同),方法为高温下SiCl4与H2和O2反应,产物有两种,化学方程式为                          (2分)。也可转化为而循环使用。一定条件下,在200C恒容密闭容器中发生反应: ,达平衡后,H2与SiHCL3物质的量浓度分别为0. 140mol/L和0. 020mol/L,若H2全部来源于离子交换膜法的电解产物,理论上需消耗纯NaCl的物质的量为_______ (2分)mol。

(4)已知1 g阴极产生的气体在阳极产生的气体中完全燃烧时放出92. 3 kj的热量,则该反应的热化学方程式为:                                    (2分)。

 

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工业上电解饱和食盐水能制取多种化工原料,其中部分原料可用于制备多晶硅。
(1) 右图是离子交换膜法电解饱和食盐水示意图,电解槽阳极产生的气体是    ;NaOH溶液的出口为______(填字母);精制饱和食盐水的进口为_____(填字母);干燥塔中使用的液体干燥剂是____(每空2分)。

(2) 原料粗盐中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等杂质,必须精制后才能供电解使用。精制时,粗盐溶于水过滤后,还要加人的试剂分别为①Na2CO3、②HCl(盐酸)、③BaCl2,这3种试剂添加的合理顺序是    (2分)(填序号)。
(3) 多晶硅主要采用SiHCl3还原工艺生产,其副产物SiCl4的综合利用受到广泛关注SiCl4可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同),方法为高温下SiCl4与H2和O2反应,产物有两种,化学方程式为                         (2分)。也可转化为而循环使用。一定条件下,在200C恒容密闭容器中发生反应:,达平衡后,H2与SiHCL3物质的量浓度分别为0. 140mol/L和0. 020mol/L,若H2全部来源于离子交换膜法的电解产物,理论上需消耗纯NaCl的物质的量为_______ (2分)mol。
(4)已知1 g阴极产生的气体在阳极产生的气体中完全燃烧时放出92. 3 kj的热量,则该反应的热化学方程式为:                                    (2分)。

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工业上电解饱和食盐水能制取多种化工原料,其中部分原料可用于制备多晶硅。

(1) 右图是离子交换膜法电解饱和食盐水示意图,电解槽阳极产生的气体是     ; NaOH溶液的出口为______ (填字母);精制饱和食盐水的进口为_____ (填字母);干燥塔中使用的液体干燥剂是____(每空2分)。

(2) 原料粗盐中常含有泥沙和Ca2+、Mg2+、Fe3+、SO42-等杂质,必须精制后才能供电解使用。精制时,粗盐溶于水过滤后,还要加人的试剂分别为①Na2CO3、②HCl(盐酸)、③BaCl2,这3种试剂添加的合理顺序是     (2分)(填序号)。

(3) 多晶硅主要采用SiHCl3还原工艺生产,其副产物SiCl4的综合利用受到广泛关注SiCl4可制气相白炭黑(与光导纤维主要原料相同),方法为高温下SiCl4与H2和O2反应,产物有两种,化学方程式为                          (2分)。也可转化为而循环使用。一定条件下,在200C恒容密闭容器中发生反应: ,达平衡后,H2与SiHCL3物质的量浓度分别为0. 140mol/L和0. 020mol/L,若H2全部来源于离子交换膜法的电解产物,理论上需消耗纯NaCl的物质的量为_______ (2分)mol。

(4)已知1 g阴极产生的气体在阳极产生的气体中完全燃烧时放出92. 3 kj的热量,则该反应的热化学方程式为:                                    (2分)。

 

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