Ⅰ．工业上电解饱和食盐能制取多种化工原料，其中部分原料可用于制备多晶硅．
（1）原料粗盐中常含有泥沙和Ca²⁺、Mg²⁺、Fe³⁺、SO₄^2-等杂质，必须精制后才能供电解使用．精制时，粗盐溶于水过滤后，还要加入的试剂分别为①Na₂CO₃、②HCl（盐酸）③BaCl₂，这3种试剂添加的合理顺序是______（填序号）洗涤除去NaCl晶体表面附带的少量KCl，选用的试剂为______．（填序号）（①饱和Na₂CO₃溶液  ②饱和K₂CO₃溶液  ③75%乙醇 ④四氯化碳）
（2）如图是离子交换膜（允许钠离子通过，不允许氢氧根与氯离子通过）法电解饱和食盐水示意图，电解槽阳极产生的气体是______；NaOH溶液的出口为______（填字母）；精制饱和食盐水的进口为______（填字母）；干燥塔中应使用的液体是______．

Ⅱ．多晶硅主要采用SiHCl₃还原工艺生产，其副产物SiCl₄的综合利用受到广泛关注．
（1）SiCl₄可制气相白炭黑（与光导纤维主要原料相同），方法为高温下SiCl₄与H₂和O₂反应，产物有两种，化学方程式为______ SiO₂+4HCl

工业上用电解饱和食盐水的方法制取氢氧化钠、氯气和氢气，但电解前要进行粗盐精制。试回答下列问题：
资料卡片：

(1)选择试剂以除去下表所列的可溶性杂质。

杂质	加入的试剂
CaCl2	Ⅰ________
MgCl2	Ⅱ________
硫酸盐	Ⅲ________

(2)精制过程既要将杂质离子Ca^2＋、Mg^2＋、SO₄^2— 完全沉淀，又要保证不引入新的杂质，为此你认为加入所选沉淀剂的合理顺序为：Ⅱ、________、________(填序号)．
(3)最后加适量的盐酸以调节溶液至中性并除去过量的CO₃^2—.其中盐酸除去CO₃^2—的化学方程式为______________________________________________________________________．

工业上用电解饱和食盐水的方法制取氢氧化钠、氯气和氢气，但电解前要进行粗盐精制。试回答下列问题：

资料卡片：

(1)选择试剂以除去下表所列的可溶性杂质。

杂质	加入的试剂
CaCl2	Ⅰ________
MgCl2	Ⅱ________
硫酸盐	Ⅲ________

(2)精制过程既要将杂质离子Ca^2＋、Mg^2＋、SO₄^2— 完全沉淀，又要保证不引入新的杂质，为此你认为加入所选沉淀剂的合理顺序为：Ⅱ、________、________(填序号)．

(3)最后加适量的盐酸以调节溶液至中性并除去过量的CO₃^2—.其中盐酸除去CO₃^2—的化学方程式为______________________________________________________________________．