（2012?太原一模）X、Y、Z、U、W为原子序数依次增大的前四周期元素，X、Y、Z三种元素的基态原子具有相同的能层和能级，且第一电离能：I₁（X）＜I₁（Z）＜I₁（Y），其中基态Y原子的2p轨道处于半充满状态，且XZ₂与Y₂Z互为等电子体．U为周期表前四周期中电负性最小的元素，W的原子序数为26．试回答下列问题：
（1）XZ₂的电子式为，基态W原子的核外电子排布式为．
（2）Y的简单氢化物极易溶于Z的简单氢化物中，其主要原因是．
（3）X的一种氢化物的相对分子质量为26，其分子中σ键与π键的键数之比为；其分子中X原子的杂化轨道类型为．
（4）化合物甲由Z、U两元素组成，其晶胞如图所示．
①甲的化学式为
②下列有关该晶体的说法正确的是（填字母编号）．
A．每个晶胞中含有14个U⁺和13个Z^-₂
B．晶体中每个U⁺周围距离U⁺最近的Z^-₂有8个
C．晶体中与每个U⁺距离最近的U⁺有12个
D．该晶体属于离子晶体
③甲的密度为a g?cm^-3，则晶胞的体积是cm³（只要求列出计算式，阿伏加德罗常数用N_A表示）．

我国目前制备多晶硅主要采用三氯氢硅氢还原法、硅烷热解法和四氯化硅氢还原法．由于三氯氢硅还原法具有一定优点，被广泛应用．其简化的工艺流程如图所示：

反应①：Si（粗）+3HCl（g） 

553----573K  .

SiHCl₃（l）+H₂（g）
反应②：SiHCl₃+H₂ 

1373K  .

 Si（纯）+3HCl
（1）制备三氯氢硅的反应为：Si（s）+3HCl（g）═SiHCl₃（g）+H₂（g）；△H=-210kJ?mol^-1．伴随的副反应有：Si（s）+4HCl（g）═SiCl₄（g）+2H₂（g）；△H=-241kJ?mol^-1．SiCl₄在一定条件下与H₂反应可转化为SiHCl₃，反应的热化学方程式为：SiCl₄（g）+H₂（g）═SiHCl₃（g）+HCl（g）；△H=．
（2）假设在每一轮次的投料生产中，硅元素没有损失，反应①HCl中的利用率为75%，反应②中和H₂的利用率为80%．则在下一轮次的生产中，需补充投入HCl和H₂的体积比是．
（3）由于SiH₄具有易提纯的特点，因此硅烷热分解法是制备高纯硅很有发展潜力的方法．工业上广泛采用的合成硅烷方法是让硅化镁和固体氯化铵在液氨介质中反应得到硅烷，化学方程式是；
整个制备过程必须严格控制无水，否则反应将不能生成硅烷，而是生成硅酸和氢气等，其化学方程式为；
整个系统还必须与氧隔绝，其原因是．
（4）若将硅棒与铁棒用导线相连浸在氢氧化钠溶液中构成原电池，则负极的电极反应式为：
（5）硅能用于合成硅橡胶，右图是硅橡胶中的一种，其主要优点是玻璃化温度低，耐辐射性能好，则该硅橡胶的化学式为．