下列物质中,不能用单质直接制取的是: A FeCl3 B CuS C FeS 闂傚倸鍊搁崐鐑芥嚄閸洖纾婚柕濞炬櫅绾惧灝鈹戦悩宕囶暡闁搞倕鐗忛幉鎼佹偋閸繄鐟ㄩ梺缁樺笒閻忔岸濡甸崟顖氱闁规惌鍨遍弫楣冩煟鎼淬垻鍟查柟鍑ゆ嫹查看更多

 

题目列表(包括答案和解析)

铁铜单质及其化合物的应用范围很广。现有含氯化亚铁杂质的氯化铜晶体(CuCl2·2H2O),为制取纯净的CuCl2·2H2O,首先将其制成水溶液,然后按照如图步骤进行提纯:

已知Cu2+、Fe3+和Fe2+的氢氧化物开始沉淀和沉淀完全时的pH见下表:

 
Fe3+
Fe2+
Cu2+
氢氧化物开始沉淀时的pH
1.9
7.0
4.7
氢氧化物沉淀完全时的pH
3.2
9.0
6.7
 
请回答下列问题:
(1)加入氧化剂的目的是                          
(2)下列最适合作氧化剂X的是                       
A.K2Cr2O7  B.NaClO  C.H2O2  D.KMnO4
(3)加入的物质Y是                      
(4)如果不用物质Y而直接用可溶性碱溶液能不能达到目的?      (填“能”或者“不能”)。若不能,试解释原因                                      (若填“能”,此空不用回答)
(5)最后能不能直接蒸发得到CuCl2·2H2O?          (填“能”或者“不能”)。若不能,应该如何操作才能得到CuCl2·2H2O                            (若填“能”,此空不用回答)
(6)若向溶液Ⅱ中加入碳酸钙,产生的现象是                             
(7)若向溶液Ⅱ中加入镁粉,产生的气体是     ,试解释原因                      
(8)FeCl3溶液具有净水作用的原因是                                         

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铁铜单质及其化合物的应用范围很广。现有含氯化亚铁杂质的氯化铜晶体(CuCl2·2H2O),为制取纯净的CuCl2·2H2O,首先将其制成水溶液,然后按照如图步骤进行提纯:

已知Cu2+、Fe3+和Fe2+的氢氧化物开始沉淀和沉淀完全时的pH见下表:
 
Fe3+
Fe2+
Cu2+
氢氧化物开始沉淀时的pH
1.9
7.0
4.7
氢氧化物沉淀完全时的pH
3.2
9.0
6.7
 
请回答下列问题:
(1)加入氧化剂的目的是                          
(2)下列最适合作氧化剂X的是                       
A.K2Cr2O7  B.NaClO  C.H2O2  D.KMnO4
(3)加入的物质Y是                      
(4)如果不用物质Y而直接用可溶性碱溶液能不能达到目的?      (填“能”或者“不能”)。若不能,试解释原因                                      (若填“能”,此空不用回答)
(5)最后能不能直接蒸发得到CuCl2·2H2O?          (填“能”或者“不能”)。若不能,应该如何操作才能得到CuCl2·2H2O                            (若填“能”,此空不用回答)
(6)若向溶液Ⅱ中加入碳酸钙,产生的现象是                             
(7)若向溶液Ⅱ中加入镁粉,产生的气体是     ,试解释原因                      
(8)FeCl3溶液具有净水作用的原因是                                         

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铁铜单质及其化合物的应用范围很广。现有含氯化亚铁杂质的氯化铜晶体(CuCl2·2H2O),为制取纯净的CuCl2·2H2O,首先将其制成水溶液,然后按照如图步骤进行提纯:

已知Cu2+、Fe3+和Fe2+的氢氧化物开始沉淀和沉淀完全时的pH见下表:

 

Fe3+

Fe2+

Cu2+

氢氧化物开始沉淀时的pH

1.9

7.0

4.7

氢氧化物沉淀完全时的pH

3.2

9.0

6.7

 

请回答下列问题:

(1)加入氧化剂的目的是                          

(2)下列最适合作氧化剂X的是                       

A.K2Cr2O7   B.NaClO   C.H2O2   D.KMnO4

(3)加入的物质Y是                      

(4)如果不用物质Y而直接用可溶性碱溶液能不能达到目的?       (填“能”或者“不能”)。若不能,试解释原因                                       (若填“能”,此空不用回答)

(5)最后能不能直接蒸发得到CuCl2·2H2O?           (填“能”或者“不能”)。若不能,应该如何操作才能得到CuCl2·2H2O                             (若填“能”,此空不用回答)

(6)若向溶液Ⅱ中加入碳酸钙,产生的现象是                             

(7)若向溶液Ⅱ中加入镁粉,产生的气体是      ,试解释原因                      

(8)FeCl3溶液具有净水作用的原因是                                         

 

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高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料,是制备半导体的重要材料,它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。高纯硅通常用以下方法制备:用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含Fe、Al、B、P等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度为450~500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置图。

相关信息:a.四氯化硅遇水极易水解;b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接化合生成相应的氯化物;c.有关物质的物理常数见下表:

物质

SiCl4

BCl3

AlCl3

FeCl3

PCl5

沸点/℃

57.7

12.8

315

熔点/℃

-70.0

-107.2

升华温度/℃

180

300

162

 

请回答下列问题:

(1)仪器e的名称为               ,装置A中f管的作用是                           ,其中发生反应的离子方程式为                                             

(2)装置B中的试剂是                     

(3)某学习小组设计了以下两种实验方案:方案甲:g接装置Ⅰ;方案乙:g接装置Ⅱ。但是甲乙两个方案中虚线内装置均有不足之处,请你评价后填写下表。

方案

不足之处

 

 

 

(4)在上述(3)的评价基础上,请设计一个合理方案:                                   

(5)通过上述合理的装置制取并收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是            (填写元素符号)。

 

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高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料,是制备半导体的重要材料,它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。高纯硅通常用以下方法制备:用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含Fe、Al、B、P等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度为450~500℃),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置图。

相关信息:a.四氯化硅遇水极易水解;b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接化合生成相应的氯化物;c.有关物质的物理常数见下表:

物质

SiCl4

BCl3

AlCl3

FeCl3

PCl5

沸点/℃

57.7

12.8

315

熔点/℃

-70.0

-107.2

升华温度/℃

180

300

162

 

请回答下列问题:

(1)仪器e的名称为____________,装置A中f管的作用是_______________________________________,其中发生反应的离子方程式为_____        ____________________________________     _______。

(2)装置B中的试剂是____________。

(3)某学习小组设计了以下两种实验方案:方案甲:g接装置Ⅰ;方案乙:g接装置Ⅱ。但是甲乙两个方案中虚线内装置均有不足之处,请你评价后填写下表。

方案

不足之处

 

 

 

(4)在上述(3)的评价基础上,请设计一个合理方案:___________     ________                 

(5)通过上述合理的装置制取并收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是    (填写元素符号)。

 

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同步练习册答案
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