16.某种“光敏性高分子 材料在荧光屏及大规模集成电路中应用广泛.其结构可表示为: 对该“光敏性高分子 叙述正确的是-------------------- A.化学式为(C11H11O2)n B.1mol该分子最多能和4nmolH2发生加成反应 C.它可以和FeCl3溶液发生显色反应 D.它能发生加成反应.不能发生水解反应 查看更多

 

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某种“光敏性高分子”材料在荧光屏及大规模集成电路中应用广泛.其结构可表示为:对该“光敏性高分子”叙述正确的是(  )

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某种“光敏性高分子”材料在荧光屏及大规模集成电路中应用广泛.其结构可表示为:
对该“光敏性高分子”叙述正确的是(  )

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某种“光敏性高分子”材料在荧光屏及大规模集成电路中应用广泛。其结构可表示为:

该高分子可由单体M经加聚反应得到。对单体M的叙述正确的是(    )

A.分子式为(C11H10O2n                      B.1 mol M最多能和4 mol H2发生加成反应

C.它可以和FeCl3溶液发生显色反应             D.它既能发生加成反应,又能发生水解反应

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某种“光敏性高分子”材料在荧光屏及大规模集成电路中应用广泛.其结构可表示为:
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对该“光敏性高分子”叙述正确的是(  )
A.化学式为(C11H11O2n
B.1mol该分子最多能和4nmolH2发生加成反应
C.它可以和FeCl3溶液发生显色反应
D.它能发生加成反应,不能发生水解反应

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某种“光敏性高分子”材料在荧光屏及大规模集成电路中应用广泛.其结构可表示为:
对该“光敏性高分子”叙述正确的是(  )
A.化学式为(C11H11O2n
B.它能发生加成反应,不能发生水解反应
C.它可以和FeCl3溶液发生显色反应
D.1mol该分子最多能和4nmolH2发生加成反应
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