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“卤块”的主要成分为MgCl2(含Fe2+、Fe3+、Mn2+等杂质离子),若以它为原料,按如下工艺流程图,即可制得“轻质氧化镁”.如果要求产品尽量不含杂质离子,而且成本较低,流程中所用试剂或pH值控制可参考下列附表确定.
Ω注:Fe2+氢氧化物呈絮状,不易从溶液中除去,所以常将它氧化成为Fe3+,生成Fe(OH)3沉淀而去除之.
请填写以下空白:
(1)、在步骤②加入试剂X,最佳选择应是________,其作用是________.
(2)、在步骤③加入的试剂Y应是________,之所以要控制pH=9.8,其目的是________.
(3)、在步骤⑤时发生的化学反应方程式是:________.
“卤块”的主要成分为MgCl2(含Fe2+、Fe3+、Mn2+等杂质离子),若以它为原料,按如下工艺流程图,即可制得轻质氧化镁.如果要求产品尽量不含杂质离子,而且成本较低.流程中所用试剂或pH控制可参阅下表确定.
注:
Fe2+氢氧化物呈絮状,不易从溶液除去,所以常将它氧化成为Fe3+生成Fe(OH)3沉淀而除去.
请填写以下空白:
(1)在步骤②加入的试剂X,最佳选择应________,其作用是________.
(2)在步骤③加入的试剂Y,应是________之所以要控制pH=9.8,其目的是________.
(3)在步骤⑤时发生的化学方程式是________.
“卤块”的主要成分为MgCl2(含Fe2+、Fe3+、Mn2+等杂质离子),若以它为原料,按图工艺流程图操作,即可制得“轻质氧化镁”.如果要求产品尽量不含杂质离子,而且成本较低.流程中所用试剂或pH控制可参考下列附表确定.
注:Fe2+氢氧化物呈絮状,不易从溶液中除去.所以常将它氧化为Fe3+,生成Fe(OH)3沉淀而去除之.
请填写以下空白:
(1)在步骤②加入的试剂x,最佳选择应是________,其作用是________.
(2)在步骤③加入的试剂y应是________,之所以要控制pH=9.8,其目的是________.
(3)在步骤⑤时发生的化学反应方程式是:________.
“卤块”的主要成分为MgCl2(含Fe2+、Fe3+、Mn2+等杂质离子),若以它为原料,按如下工艺流程图,即可制得“轻质氧化镁”.如果要求产品尽量不含杂质离子,而且成本较低,流程中所用试剂或pH值控制可参考下列附表确定.
请填写以下空白:
(1)在步骤②加入的试剂X,最佳选择应是________,其作用是________.
(2)步骤③加入的试剂Y应是________;之所以要控制pH=9.8,其目的是________.
(3)在步骤⑤时发生的化学反应方程式是________.
“卤块”的主要成分为MgCl2(含Fe2+、Fe3+、Mn2+等杂质离子),若以它为原料,按如下工艺流程图,即可制得“轻质氧化镁”。如果要求产品尽量不含杂质离子,而且成本较低,流程中所用试剂或PH值控制可参考下列附表确定
轻质氧化镁生产工艺流程图
表1 生成氢氧化物沉淀的PH值
物质 | 开始沉淀 | 沉淀完全 |
Fe(OH)3 Fe(OH)2 Mn(OH)2 Mg(OH)2 | 2.7 7.6 8.3 9.6 | 3.7 9.6 9.8 11.1 |
*)注:Fe2+氢氧化物呈絮状,不易从溶液中除去,所以常常将它氧化成为Fe3+,生成
Fe(OH)3沉淀而去除之。
表2 化学试剂价值表
试剂 | 价格(元/t) |
漂液(含NaClO25.2%) H2O2(30%) NaOH(固98%) Na2CO3(固99.5%) 卤块(MgCl2,30%) | 450 2400 2100 600 310 |
请填写以下空白:
(1)在步骤②加入的试剂X,最佳选择应是 ,其作用是 。
(2)步骤③加入的试剂Y应是 ;之所以要控制pH=9.8,其目的是 。
(3)在步骤⑤时发生的化学反应方程式是:
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