题目列表(包括答案和解析)
(10分)晶体硅是一种重要的非金属材料。请写出晶体硅的二种用途:______、______
制备纯硅的主要步骤如下:
①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3(常温下为液态,易挥发)
③SiHCl3与过量H2在1000~1100℃反应制得纯硅。
已知:Ⅰ.SiHCl3水解会生成两种气态产物,请写出其水解的化学方程式:___________。
Ⅱ.SiHCl3在空气中自燃。请回答下列问题:
(1)第①步制备粗硅的化学反应方程式为 。
(2)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下(热源及夹持装置略去)
①装置B中的试剂是 ,装置C中的烧瓶需要加热,其目的是______________,
②反应一段时间后,装置D中观察到的现象是 _ ,
装置D中发生反应的化学方程式为 ___ ,
③为保证制备纯硅实验的成功,操作的关键是检查实验装置的气密性,控制好反应温度
以及 _____________ ,
④设计鉴定产品硅中是否含少量Fe单质的方法:_________________________________。
(10分)晶体硅是一种重要的非金属材料。请写出晶体硅的二种用途:______、______
制备纯硅的主要步骤如下:
①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3(常温下为液态,易挥发)
③SiHCl3与过量H2在1000~1100℃反应制得纯硅。
已知:Ⅰ.SiHCl3水解会生成两种气态产物,请写出其水解的化学方程式:___________。
Ⅱ.SiHCl3 在空气中自燃。请回答下列问题:
(1)第①步制备粗硅的化学反应方程式为 。
(2)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下(热源及夹持装置略去)
①装置B中的试剂是 ,装置C中的烧瓶需要加热,其目的是______________,
②反应一段时间后,装置D中观察到的现象是 _ ,
装置D中发生反应的化学方程式为 ___ ,
③为保证制备纯硅实验的成功,操作的关键是检查实验装置的气密性,控制好反应温度
以及 _____________ ,
④设计鉴定产品硅中是否含少量Fe单质的方法:_________________________________。
晶体硅是一种重要的非金属材料。请写出晶体硅的二种用途:______、______
制备纯硅的主要步骤如下:
①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3(常温下为液态,易挥发)
③SiHCl3与过量H2在1000~1100℃反应制得纯硅。
已知:Ⅰ.SiHCl3水解会生成两种气态产物,请写出其水解的化学方程式:___________。
Ⅱ.SiHCl3 在空气中自燃。请回答下列问题:
(1)第①步制备粗硅的化学反应方程式为 。
(2)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下(热源及夹持装置略去)
①装置B中的试剂是 ,装置C中的烧瓶需要加热,其目的是______________,
②反应一段时间后,装置D中观察到的现象是 _ ,
装置D中发生反应的化学方程式为 ___ ,
③为保证制备纯硅实验的成功,操作的关键是检查实验装置的气密性,控制好反应温度
以及 _____________ ,
④设计鉴定产品硅中是否含少量Fe单质的方法:_________________________________。
(1)乙、丁中溶质的分子式:乙 ,丁 。
(2)第④步操作中用稀H2SO4浸洗的目的是 (填写字母编号)
a.除去未反应的NO b.除去未反应的I-
c.除去未反应的Fe d.除去碱性物质
(3)第⑦步操作可供提纯I2的两种方法是 和 (不要求写具体步骤)。
(4)实验室检验I2的方法是 。
(5)甲物质见光易变黑,其原因是(用化学方程式表示) 。
电浮选凝聚法是工业上采用的一种污水处理方法。
图1―6是电解污水实验装置示意图。接通直流电源后,与直流电源正极相连的阳极铁失去电子生成Fe2+,进一步被氧化,并生成Fe(OH)3沉淀,Fe(OH)3有吸附性,可吸附污物而沉积下来,具有净化的作用;与直流电源负极相连的阴极产生H2,气泡把污水中悬浮物带到水面形成浮渣层,积累到一定厚度时刮去(或撇掉)浮渣层,即起到了浮选净化的作用。
(1)根据该净化原理写出阳极区和阴极区上各自发生的电极反应式
阳极:
阴极:
(2)试分析不能参加反应的污染物是如何沉淀的:
(3)最后悬浮物为什么会形成浮渣:
(4)某同学甲模拟该原理进行污水处理实验,在电压符合要求情况下,发现产生气泡速率缓慢,无法使悬浮物形成浮渣。其原因是 。乙同学为甲同学提出一种切实可行的解决措施是向污水中加入适量的 溶液。
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