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    22．已知H2O2.KMnO4.NaClO.K2Cr2O7均具有强氧化性,将溶液中的Cu2+.Fe2+.Fe3+沉淀为氢氧化物.需溶液的pH分别为:6.4.6.4.3.7.现有含有FeCl2杂质的氯化铜晶体(CuCl2·2H2O).为制取纯净的CuCl2·2H2O.首先将其制成水溶液.然后按下图所示步骤进行提纯: 加入物质Y 请回答下列问题: (1)本实验最适合的氧化剂X是 . A．K2Cr2O7 B．NaClO C．H2O2 D．KMnO4 (2)物质Y是 . (3)本实验用加碱沉淀法能不能达到目的? 原因是 . (4)除去Fe3+的有关化学方程式是: . . (5)加氧化剂的目的是 . (6)最后能不能直接蒸发结晶得到CuCl2·2H2O晶体? .如何操作 . 解析:本题将氧化还原反应.盐类水解及其应用综合在一起.是一道典型的水解原理应用题.根据沉淀时溶液的pH知除去杂质时要将Fe2+先转化为Fe3+再除去容易些.这样就需加入合适的氧化剂.对于氧化剂的选取原则是既能氧化Fe2+.又不引入杂质.故选择H2O2好些.加入Y的目的是增大溶液的pH但不引入杂质.因Fe3++3H2OFe(OH)3+3H+.故加难溶的铜的化合物CuO.Cu(OH)2或CuCO3等消耗H+.使平衡正向移动.本实验中不能加碱.是为了防止生成Cu(OH)2沉淀而达不到目的.要想得到CuCl2·2H2O晶体.必须在HCl气流中蒸发.防止CuCl2水解. 答案:2或CuCO3 (3)不能 因加碱的同时Cu2+也会生成Cu(OH)2沉淀 (4)Fe3++3H2OFe(OH)3+3H+ CuO+2H+===Cu2++H2O (5)将Fe2+氧化成Fe3+.便于Fe3+生成沉淀而与Cu2+分离 (6)不能 应在HCl气流中蒸发 [点拨] 盐类水解经常与实验室制备物质.除杂质等联系在一起进行综合考查.一般涉及Al3+.Fe3+.Mg2+.如制取Fe(OH)3.Al(OH)3及加热蒸干MgCl2溶液等.均需要考虑离子的水解. 【查看更多】

     

    题目列表(包括答案和解析)

    现有含FeCl2杂质的氯化铜晶体（CuCl2?2H2O），为制取纯净的CuCl2?2H2O，首先将其制成水溶液，然后按下图所示步骤进行提纯：

    已知H2O2、KMnO4、NaClO、K2Cr2O7均具有强氧化性，要将溶液中的Cu2+、Fe2+、Fe3+沉淀为氢氧化物，需溶液的pH如下表．
      氢氧化物开始沉淀时的pH 氢氧化物沉淀完全时约pH
    Fe3+
    Fe2+
    Cu2+    		 1.9
    7.0
    4.7    		 3.2
    9.0
    6.7
    请回答下列问题：
    （1）本实验最适合的氧化剂X是
    C
    C
    （填序号）．
    A．K2Cr2O7        B．NaClO       C．H2O2       D．KMnO4
    （2）加氧化剂的目的是
    将Fe2+氧化为Fe3+，便于生成沉淀而与Cu2+分离
    将Fe2+氧化为Fe3+，便于生成沉淀而与Cu2+分离
    ．
    （3）物质Y是
    CuO或Cu（OH）2或CuCO3或Cu2（OH）2CO3
    CuO或Cu（OH）2或CuCO3或Cu2（OH）2CO3
    （写化学式），加入Y的目的是
    调节溶液的pH至3.2～4.7
    调节溶液的pH至3.2～4.7
    ．
    （4）除去Fe3+的有关离子方程式是
    Fe3++3H2O?Fe（OH）3+3H+，CuO+2H+═Cu2++H2O
    Fe3++3H2O?Fe（OH）3+3H+，CuO+2H+═Cu2++H2O
    ．
    （5）加入物质Y后得到的沉淀是
    Fe（OH）3
    Fe（OH）3
    （写化学式）．如何洗涤该沉淀沉淀？
    加蒸馏水至刚好淹没沉淀，过滤，重复几次
    加蒸馏水至刚好淹没沉淀，过滤，重复几次
    ．
    （6）最后能不能直接蒸发结晶得到CuCl2?2H2O晶体？
    不能
    不能
    ，应如何操作？
    应在HCl的气流中加热蒸发
    应在HCl的气流中加热蒸发
    ．

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    已知H2O2、KMnO4、NaClO、K2Cr2O7均具有强氧化性，将溶液中的Cu2+、Fe2+、Fe3+沉淀为氢氧化物，需溶液的pH分别为6.4、6.4、3.7。现有含FeClx杂质的氯化铜晶体(CuCl2·2H2O)，为制取纯净的CuCl2·2H2O，首先将其制成水溶液，然后按图示步骤进行提纯：

    请回答下列问题：

    (1)本实验最适合的氧化剂X是__________。（选填下面的序号）

    A.K2Cr2O7              B.NaClO            C.H2O2                  D.KMnO4

    (2)物质Y是________。

    (3)本实验用加碱沉淀的目的是否能达到？________________。原因是________________。

    (4)除去Fe3+的化学方程式为________________________________。

    (5)加氧化剂的目的为________________________。

    (6)最后能不能直接蒸发结晶得到CuCl2·2H2O晶体？________________。原因是________。

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    现有含FeCl2杂质的氯化铜晶体（CuCl2·2H2O），为制取纯净的CuCl2·2H2O，首先将其制成水溶液，然后按下图所示步骤进行提纯：

    已知H2O2、KMnO4、NaClO、K2Cr2O7均具有强氧化性，要将溶液中的Cu2＋、Fe2＋、Fe3＋沉淀为氢氧化物，需溶液的pH分别为6.4、6.4、3.7。

    请回答下列问题 [（1）~（2）小题填标号] ：

    （1）本实验最适合的氧化剂X是__________

    A．K2Cr2O7           B．NaClO            C．H2O2                   D．KMnO4

    （2）物质Y不可以是___________

    A．CuO              B．CuCl2             C．Cu（OH）2              D．CuCO3

    （3）若Y为Cu(OH)2，写出除去Fe3＋的离子方程式：                            

    （4）加入氧化剂的目的是_______________________________________。

    （5）最后能不能直接蒸发结晶得到CuCl2·2H2O？__________（填“能”或“不能”）。如不能，应如何操作？（如能，此空不填）_______________________________。

     

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    现有含FeCl2杂质的氯化铜晶体，为制取纯净的CuCl2?2H2O，首先将其制成水溶液，然后按下图所示步骤进行提纯：

    已知H2O2、KMnO4、NaClO、K2Cr2O7均具有强氧化性，要将溶液中的Cu2+、Fe2+、Fe3+沉淀为氢氧化物，需溶液的pH如下表．
     氢氧化物开始沉淀时的pH氢氧化物沉淀完全时约pH
    Fe3+
    Fe2+
    Cu2+    		1.9
    7.0
    4.7    		3.2
    9.0
    6.7
    请回答下列问题：
    （1）本实验最适合的氧化剂X是______（填序号）．
    A．K2Cr2O7        B．NaClO       C．H2O2       D．KMnO4
    （2）加氧化剂的目的是______．
    （3）物质Y是______（写化学式），加入Y的目的是______．
    （4）除去Fe3+的有关离子方程式是______．
    （5）加入物质Y后得到的沉淀是______（写化学式）．如何洗涤该沉淀沉淀？______．
    （6）最后能不能直接蒸发结晶得到CuCl2?2H2O晶体？______，应如何操作？______．

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    现有含FeCl2杂质的氯化铜晶体（CuCl2?2H2O），为制取纯净的CuCl2?2H2O，首先将其制成水溶液，然后按下图所示步骤进行提纯：

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    已知H2O2、KMnO4、NaClO、K2Cr2O7均具有强氧化性，要将溶液中的Cu2+、Fe2+、Fe3+沉淀为氢氧化物，需溶液的pH如下表．
      氢氧化物开始沉淀时的pH 氢氧化物沉淀完全时约pH
    Fe3+
    Fe2+
    Cu2+    		 1.9
    7.0
    4.7    		 3.2
    9.0
    6.7
    请回答下列问题：
    （1）本实验最适合的氧化剂X是______（填序号）．
    A．K2Cr2O7        B．NaClO       C．H2O2       D．KMnO4
    （2）加氧化剂的目的是______．
    （3）物质Y是______（写化学式），加入Y的目的是______．
    （4）除去Fe3+的有关离子方程式是______．
    （5）加入物质Y后得到的沉淀是______（写化学式）．如何洗涤该沉淀沉淀？______．
    （6）最后能不能直接蒸发结晶得到CuCl2?2H2O晶体？______，应如何操作？______．

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