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    10．光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料.某一光刻胶的主要成分如图所示.下列有关说法正确的是 ( ) A．合成此高聚物的单体的化学式为C11H10O2 B．1 mol该物质可消耗4molH2 C．该物质可稳定存在于碱性溶液中 D．该物质可经过缩聚反应制得 11．霉酚酸酯(MMF)是器官移植中抑制细胞增殖 最常用的药物.下列关于说法正确的是( ) A．MMF能溶于水 B．MMF能发生取代反应和消去反应 C．1molMMF能与6mol氢气发生加成反应 D．1molMMF能与含3molNaOH的水溶液完全反应 【查看更多】

     

    题目列表(包括答案和解析)

    光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料，某一光刻胶的主要成分如图所示，下列有关说法正确的是（　　）

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    光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料，某一光刻胶的主要成分如图所示，下列有关说法正确的是（　　）

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    光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料，某一光刻胶的主要成分如图所示，下列有关说法正确的是（　　）
    A．合成此高聚物的单体的化学式为C11H10O2
    B．1 mol该物质可消耗4molH2
    C．该物质可稳定存在于碱性溶液中
    D．该物质可经过加聚反应制得
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    光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料，某一光刻胶的主要成分如图所示，下列有关说法正确的是（ ）

    A．合成此高聚物的单体的化学式为C11H10O2
    B．1 mol该物质可消耗4molH2
    C．该物质可稳定存在于碱性溶液中
    D．该物质可经过加聚反应制得

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    光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料．某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B．

    （1）请指出A中含有的官能团名称
    酯基、碳碳双键
    酯基、碳碳双键
    （填两种）．
    （2）A经光照固化转变为B，发生了
    加成
    加成
    反应（填反应类型）．
    （3）写出A与NaOH溶液反应的化学方程式
    ．
    （4）写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式
    C18H16O4
    C18H16O4
    ．

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