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    光刻胶是大规模集成电路.印刷电路板和激光制版技术中的关键材料.某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B. A B ⑴请写出A中含有的官能团 . ⑵A经光照固化转变为B.发生了 反应. ⑶写出A与NaOH溶液反应的化学方程式 . ⑷写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式 . 【查看更多】

     

    题目列表(包括答案和解析)

    光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料．某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B．

    （1）请指出A中含有的官能团名称
    酯基、碳碳双键
    酯基、碳碳双键
    （填两种）．
    （2）A经光照固化转变为B，发生了
    加成
    加成
    反应（填反应类型）．
    （3）写出A与NaOH溶液反应的化学方程式
    ．
    （4）写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式
    C18H16O4
    C18H16O4
    ．

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    光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料。某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B。

    (1)请指出A中含有的官能团_________(填两种)。

    (2)A经光照固化转变为B，发生了_________反应(填反应类型)。

    (3)写出A与NaOH溶液反应的化学方程式________________________。

    (4)写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式____________。

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    光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料。某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B。

    (1)请指出A中含有的官能团(填两种)。

    (2)A经光照固化转变为B，发生了_______________反应(填反应类型)。

    (3)写出A与NaOH溶液反应的化学方程式____________________________________。

    (4)写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式_______________________。

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    22.光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料。某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B。

    ⑴请写出A中含有的官能团_______________（填两种）。

    ⑵A经光照固化转变为B，发生了___________反应（填反应类型）。

    ⑶写出A与NaOH溶液反应的化学方程式______________________________。

    ⑷写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式_______________。

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    光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料。某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B。

    (1)请写出A中含有的官能团_____________（填两种）。

    （2）A经光照固化转变为B，发生了__________反应（填反应类型）。

    （3）写出A与NaOH溶液反应的化学方程式________________________________________。

    （4）写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式___________________________。

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