20. 工业上用甲苯生产对-羟基苯甲酸乙酯 (一种常见的化妆品防霉剂).其生产过程如下图: 根据上述合成路线回答: (1) 反应①的试剂和条件是 a.氯气.光照 b.液溴.催化剂 有机物B的结构简式是 . (2) 反应⑤的化学方程式为: . (3) 反应④的反应类型是 .反应⑥的反应类型是 . a.取代反应 b.加成反应 c.消去反应 d.酯化反应 e.氧化反应 (4) 上述四种化合物B.C.E.G中: 能与NaHCO3反应, 能与过量浓溴水反应.在一定条件下.等物质的量的B.C.E.G与足量的NaOH水溶液反应.消耗NaOH的物质的量之比为 . (5) 由C物质制备时.不可选用的试剂是 . a.CH3COONa溶液 b.NaOH溶液 c.NaHCO3溶液 d.Na 查看更多

 

题目列表(包括答案和解析)

工业上用甲苯生产对羟基苯甲酸乙酯(),(俗称尼泊金乙酯)可用作防腐剂,对霉菌有很强的抑制作用.其过程如下:

据图填写下列空白:
(1)有机物A的结构简式
,B的结构简式

(2)反应④属于
氧化反应
氧化反应
,反应⑤属于
酯化反应
酯化反应

(3)③和⑥的目的是
保护酚羟基,防止被氧化
保护酚羟基,防止被氧化

(4)写出反应⑥的方程式
+HI
一定条件
+CH3I
+HI
一定条件
+CH3I

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工业上用甲苯生产对-羟基苯甲酸乙酯 (一种常见的化妆品防霉剂),其生产过程如图(反应条件没有全部注明):

根据上述合成路线回答:
(1)反应①的试剂和条件是
B
B
(填编号)  
 a.氯气、光照     b.液溴、催化剂
有机物B的结构简式是

(2)反应⑤的化学方程式为:

(3)反应④的反应类型是
e
e
(填编号),反应⑥的反应类型是
a
a
(填编号).
a.取代反应   b.加成反应   c.消去反应    d.酯化反应    e.氧化反应
(4)上述四种化合物B、C、E、G中:
E
E
能与NaHCO3反应(不考虑酯的水解);
C、G
C、G
能与过量浓溴水反应.在一定条件下,等物质的量的B、C、E、G与足量的NaOH水溶液反应,消耗NaOH的物质的量之比为
2:1:1:2
2:1:1:2

(5)由C物质制备时,不可选用的试剂是(选填编号)
a、c
a、c

a.CH3COONa溶液    b.NaOH溶液      c.NaHCO3溶液      d.Na.

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工业上用甲苯生产对羟基苯甲酸乙酯(一种常见的化妆品防霉剂),其生产过程如下图(反应条件没有全部注明):

根据上述合成路线回答:

(1)有机物A的结构简式_________________。

(2)反应④的化学方程式(有机物写结构简式,要注明反应条件): 

______________________________________。

(3)反应③的反应类型(填编号)_________________,反应⑤的反应类型(填编号)_________________。

A.取代反应 B.加成反应 C.消去反应 D.酯化反应 E.氧化反应

(4)反应③的化学方程式_______________________________。

(5)在合成线路中,设计第③和第⑥这两步反应的目的是_______________________。

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(8分)工业上用甲苯生产对羟基苯甲酸乙酯,其生产过程如下图,根据下图回答:

(1)有机物A的结构简式为                           

(2)反应⑤的条件是                           

(3)反应②的反应类型是        (填编号,下同),反应④的反应类型属       

A.取代反应    B.加成反应   C.氧化反应     D.酯化反应

(4)反应③的化学方程式(不用写反应条件,但要配平):

                                                                  

(5)在合成线路中,设计第③和⑥这两步反应的目的是:

                                                                  

 

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(8分)工业上用甲苯生产对羟基苯甲酸乙酯,其生产过程如下图,根据下图回答:

(1)有机物A的结构简式为                           
(2)反应⑤的条件是                           
(3)反应②的反应类型是        (填编号,下同),反应④的反应类型属       

A.取代反应B.加成反应C.氧化反应D.酯化反应
(4)反应③的化学方程式(不用写反应条件,但要配平):
                                                                  
(5)在合成线路中,设计第③和⑥这两步反应的目的是:
                                                                  

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