题目列表(包括答案和解析)
| ||
| ||
(10分)我国目前制备多晶硅主要采用三氯氢硅氢还原法、硅烷热解法和四氯化硅氢还
原法。由于三氯氢硅还原法具有一定优点,被广泛应用。其简化的工艺流程如图所示:
(1)制备三氯氢硅的反应为:Si(s)+3HCl(g) == SiHCl3(g)+H2(g) ΔH=-210 kJ•mol-1。
伴随的副反应有:Si(s)+4HCl(g) == SiCl4(g)+2H2(g) ΔH=-241 kJ•mol-1。
SiCl4在一定条件下与H2反应可转化为SiHCl3,反应的热化学方程式为:
SiCl4(g)+H2(g) == SiHCl3(g)+HCl(g) ΔH= 。
(2)由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式为 。该生产工艺中可以循环使用的物质是 (至少写出两种)。
(3)由于SiH4具有易提纯的特点,因此硅烷热分解法是制备高纯硅很有发展潜力的方法。工业上广泛采用的合成硅烷方法是让硅化镁和固体氯化铵在液氨介质中反应得到硅烷,化学方程式是 ;整个制备过程必须严格控制无水,否则反应将不能生成硅烷,而是生成硅酸和氢气等,其化学方程式为 ;整个系统还必须与氧隔绝,其原因是 。
湖北省互联网违法和不良信息举报平台 | 网上有害信息举报专区 | 电信诈骗举报专区 | 涉历史虚无主义有害信息举报专区 | 涉企侵权举报专区
违法和不良信息举报电话:027-86699610 举报邮箱:58377363@163.com