光刻胶是大规模集成电路.印刷电路板和激光版技术中的关键材料.某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B. A B ⑴请写出A中含有的官能团名称 . ⑵A经光照固化转变为B.发生了 反应. ⑶写出A与NaOH溶液反应的化学方程式 . ⑷写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式 . 查看更多

 

题目列表(包括答案和解析)

光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料.某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B.

(1)请指出A中含有的官能团名称
酯基、碳碳双键
酯基、碳碳双键
(填两种).
(2)A经光照固化转变为B,发生了
加成
加成
反应(填反应类型).
(3)写出A与NaOH溶液反应的化学方程式

(4)写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式
C18H16O4
C18H16O4

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光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料.某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B.

(1)请指出A中含有的官能团________(填两种).

(2)A经光照固化转变为B,发生了________反应(填反应类型).

(3)写出A与NaOH溶液反应的化学方程式________.

(4)写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式________.

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光刻胶是大规模集成电路、印刷电路板和激光制版技术中的关键材料.某一肉桂酸型光刻胶的主要成分A经光照固化转变为B.

(1)

请写出A中含有的官能团________(填两种).

(2)

A经光照固化转变为B,发生了________反应(填反应类型).

(3)

写出A与NaOH溶液反应的化学方程式________.

(4)

写出B在酸性条件下水解得到的芳香族化合物的分子式________.

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光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料,某一光刻胶的主要成分如图所示,下列有关说法正确的是(  )

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光刻胶是大规模集成电路印刷电路版技术中的关键材料,某一光刻胶的主要成分如图所示,下列有关说法正确的是(  )

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