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    9．三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体.它在潮湿的环境中能发生反应: 3 NF3 + 5 H2O = 2 NO + HNO3 + 9 HF.下列有关该反应的说法正确的是 ( ) A．NF3是氧化剂.H2O是还原剂 B．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1来 C．若生成0．2 mol HNO3.则转移0．2 mol电子 D．NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体 【查看更多】

     

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