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    2．三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体.它在潮湿的环境中能发生反应:3 NF3 + 5 H2O = 2 NO + HNO3 + 9 HF.下列有关该反应的说法正确的是 ( ) A.NF3是氧化剂.H2O是还原剂 B.还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1 C.若生成0.2 mol HNO3.则转移0.2 mol电子 D.NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体 【查看更多】

     

    题目列表(包括答案和解析)

    三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3＋5H2O===2NO＋HNO3＋9HF。下列有关说法正确的是　

    A．NF3是氧化剂，H2O是还原剂
    B．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2∶1
    C．若生成0.2 mol HNO3，则转移0.2 mol电子
    D．NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

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    三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：
    3NF3＋5H2O===2NO＋HNO3＋9HF。下列有关说法正确的是　

    A．NF3是氧化剂，H2O是还原剂
    B．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2∶1
    C．若生成0.2 mol HNO3，则转移0.2 mol电子
    D．NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

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    三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5 H2O  2NO+HNO3+9 HF，下列有关该反应的说法正确的是

    A．NF3是氧化剂，H2O是还原剂B．HF是还原产物
    C．还原剂和氧化剂的物质的量之比是2∶1D．NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

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    三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF，下列有关该反应的说法正确的是

    A．NF3是氧化剂，H2O是还原剂               B．HF是还原产物

    C．还原剂和氧化剂的物质的量之比是2:1        D．NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

     

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    三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3＋5H2O=2NO＋HNO3＋9HF。下列有关该反应的说法正确的是(   　)

    A．NF3分子中所有原子共平面           B．NF3在反应中既做氧化剂又做还原剂

    C．生成0.2mol HNO3时转移0.2mol电子  D．氧化产物与还原产物的物质的量之比为2∶1

     

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