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    8．三氟化氮(N F3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体.它在潮湿的环境中能发生反应:3 NF3+5H2O 2NO+HNO3+9HF.下列有关该反应的说法正确的是 ( ) A．NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体 B．NF3是氧化剂.H2O是还原剂 C．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1 D．若生成0.2 mol HNO3.则转移0.2 mol电子 【查看更多】

     

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