题目列表(包括答案和解析)
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①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅?
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3:Si+3HClSiHCl3+H2?
③SiHCl3与过量H2在1 000~1
已知SiHCl3能与H2O强烈反应,在空气中易自燃。?
请完成下列问题:?
(1)第①步制备粗硅的化学反应方程式为________________。?
(2)粗硅与HCl反应完全后,经冷凝得到的SiHCl3(沸点
(3)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下(热源及夹持装置略去):?
①装置B中的试剂是________,装置C中的烧瓶需要加热,其目的是:________________。?
②反应一段时间后,装置D中观察到的现象是________________________,装置D不能采用普通玻璃管的原因是________________,装置D中发生反应的化学方程式为________________________。?
③为保证制备纯硅实验的成功,操作的关键是检查实验装置的气密性,控制好反应温度以及________________________________。?
④为鉴定产品硅中是否含微量铁单质,将试样用稀盐酸溶解,取上层清液后需再加入的试剂(填写字母代号)是________。?
a.碘水
b.氯水
c.NaOH溶液
d.KSCN溶液
e.Na2SO3溶液
①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅
②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3:
Si+3HClSiHCl3+H2
③SiHCl与过量H2在1 000—1 100℃反应制得纯硅
已知SiHCl3能与H2O强烈反应,在空气中易自然。
请回答下列问题:
(1)第①步制备粗硅的化学反应方程式为__________________________________________。
(2)粗硅与HCl反应完全后,经冷凝得到的SiHCl3(沸点33.0℃)中含有少量SiCl4(沸点57.6℃)和HCl(沸点-84.7℃),提纯SiHCl3采用的方法为_______。
(3)用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如图1-3-8(热源及夹持装置略去):
图1-3-8
①装置B中的试剂是_______。
装置C中的烧瓶需要加热,其目的是_____________________________________________。
②反应一段时间后,装置D中观察到的现象是______________________________________。
装置D不能采用普通玻璃管的原因是_______________,装置D中发生反应的化学方程式为______________________________。
③为保证制备纯硅实验的成功,操作的关键是检查实验装置的气密性,控制好反应温度以及_______。
④为鉴定产品硅中是否含微量铁单质,将试样用稀盐酸溶解,取上层清液后需再加入的试剂(填写字母代号)是_______。
a.碘水 b.氯水 c.NaOH溶液 d.KSCN溶液 e.Na2SO3溶液
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