A.①③为置换反应

B.①②③均为氧化还原反应

C.②为化合反应

D.三个反应的反应物中硅元素均被氧化

（16分）硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：

制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷（SiHCl₃）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

（1）在制粗硅的反应中，焦炭的作用是                                                  。

（2）整个制备过程必须严格控制无水、无氧。

①SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式　　　　；②H₂还原SiHCl₃过程中若混O₂，可能引起的后果是                                    。

 (3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡。写出实验现象并给予解释　　　                                                         　。

硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。
三氯甲硅烷(SiHCl₃)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

①写出由纯SiHCl₃制备高纯硅的化学反应方程式                                 。
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式                                             ；
H₂还原SiHCl₃过程中若混入O₂，可能引起的后果是                                 
                                                                            。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是        (填字母)。

（16分）硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：

制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷（SiHCl₃）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

（1）在制粗硅的反应中，焦炭的作用是                                                   。

（2）整个制备过程必须严格控制无水、无氧。

①SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式　　　　；②H₂还原SiHCl₃过程中若混O₂，可能引起的后果是                                     。

 (3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡。写出实验现象并给予解释　　　                                                          　。