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    38． 硅单质及其化合物应用范围很广.请回答下列问题: (1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅.三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法.生产过程示意图如下: ①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式 . ②整个制备过程必须严格控制无水无氧.SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3.HCl和另一种物质.写出配平的化学反应方程式 ,H2还原SiHCl3过程中若混O2.可能引起的后果是 . (2)下列有头硅材料的说法正确的是 . A．碳化硅化学性质稳定.可用于生产耐高温水泥 B．氮化硅硬度大.熔点高.可用于制作高温陶瓷和轴承 C．高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料--光导纤维 D．普通玻璃是由纯碱.石灰石和石英砂制成的.其熔点很高 E．盐酸可以与硅反应.故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅 (3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃.取少量硅酸钠溶液于试管中.逐滴加入饱和氯化铵溶液.振荡.写出实验现象并给予解释 . 答案: (1)①SiHCl3+H2Si+3HCl ②3SiHCl3+3H2O===H2SiO3↓+H2↑+3HCl 高温下.H2遇O2发生爆炸 (2)BC (3)生成白色絮状沉淀.又刺激性气味的气体生成,解释:SiO32-与NH4+发生双水解反应.SiO32- + 2 NH4+ + 2H2O ===2NH3·H2O + H2SiO3↓ 解析:(1) ①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式: SiHCl3+H2Si+3HCl ②SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3.HCl和另一种物质.写出配平的化学反应方程式3SiHCl3+3H2O====H2SiO3+H2↑+3HCl;H2还原SiHCl3过程中若混入O2.可能引起的后果是:高温下.H2遇O2发生爆炸. (2)ABCD 解释:SiC和Si3N4均为原子晶体.熔点高.性质稳定.AB正确.光导纤维的材料为SiO2.C正确.普通玻璃的主要成分为Na2SiO3和CaSiO3.它是以石英砂(SiO2).石灰石(CaCO3)和纯碱(Na2CO3)为主要原料反应制成的.Na2CO3+SiO2Na2SiO3+CO2,CaCO3+SiO2aSiO3+CO2.D正确.常温下.Si只能与唯一一种酸HF反应不与HCl反应.E错. (3)写出实验现象并给予解释:生成白色絮状沉淀.又刺激性气味的气体生成,SiO32-与NH4+发生双水解反应.SiO32- + 2 NH4+ + 2H2O ==== 2NH3·H2O + H2SiO3↓. 【查看更多】

     

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