2.下列叙述中错误的是 ( ) A.SiO2是硅酸和原硅酸的酸酐.但不能由SiO2直接制两种酸 B.二氧化硅是通讯材料光导纤维的主要原料 C.氧化铝陶瓷.碳化硅陶瓷都是重要的高温结构陶瓷 D.二氧化硅熔点与干冰相差不大.它们都是酸性氧化物 查看更多

 

题目列表(包括答案和解析)

下列叙述中错误的是

A.

SiO2是硅酸和原硅酸的酸酐,但不能由SiO2直接制两种酸

B.

二氧化硅是通讯材料光导纤维的主要原料

C.

氧化铝陶瓷、碳化硅陶瓷都是重要的高温结构陶瓷

D.

二氧化硅熔点与干冰相差不大,它们都是酸性氧化物

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晶体硅是一种重要的非金属材料,制备高纯硅的主要流程如图所示:

已知SiHCl3能与H2O强烈反应,生成一种可燃烧的单质气体和两种酸.请回答下列问题:
(1)写出制备粗硅的化学方程式
SiO2+2C
 高温 
.
 
Si+2CO
SiO2+2C
 高温 
.
 
Si+2CO

(2)在生成SiHCl3的反应中,还原剂与还原产物的质量比为
14:1
14:1

(3)整个制备过程必须控制无水无氧,若有水可能发生的反应是
3SiHCl3+3H2O=H2SiO3+H2↑+3HCl、C+H2O
 高温 
.
 
CO+H2
3SiHCl3+3H2O=H2SiO3+H2↑+3HCl、C+H2O
 高温 
.
 
CO+H2

(4)下列关于硅及其化合物的叙述错误的是
B C D
B C D
(填字母代号)
A.二氧化硅晶体中硅氧原子间以共价键结合
B.用于现代通讯的光导纤维的主要成分是高纯度的硅
C.硅与碳位于同一主族,性质相似,在自然界中广泛存在着游离态的硅
D.SiO2和CO2都是酸性氧化物,均可与强碱(如NaOH)溶液反应,而不与任何酸反应.

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晶体硅是一种重要的非金属材料,制备高纯硅的主要流程如图所示:

已知SiHCl3能与H2O强烈反应,生成一种可燃烧的单质气体和两种酸.请回答下列问题:
(1)写出制备粗硅的化学方程式______.
(2)在生成SiHCl3的反应中,还原剂与还原产物的质量比为______.
(3)整个制备过程必须控制无水无氧,若有水可能发生的反应是______.
(4)下列关于硅及其化合物的叙述错误的是______(填字母代号)
A.二氧化硅晶体中硅氧原子间以共价键结合
B.用于现代通讯的光导纤维的主要成分是高纯度的硅
C.硅与碳位于同一主族,性质相似,在自然界中广泛存在着游离态的硅
D.SiO2和CO2都是酸性氧化物,均可与强碱(如NaOH)溶液反应,而不与任何酸反应.

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晶体硅是一种重要的非金属材料,制备高纯硅的主要流程如图所示:

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已知SiHCl3能与H2O强烈反应,生成一种可燃烧的单质气体和两种酸.请回答下列问题:
(1)写出制备粗硅的化学方程式______.
(2)在生成SiHCl3的反应中,还原剂与还原产物的质量比为______.
(3)整个制备过程必须控制无水无氧,若有水可能发生的反应是______.
(4)下列关于硅及其化合物的叙述错误的是______(填字母代号)
A.二氧化硅晶体中硅氧原子间以共价键结合
B.用于现代通讯的光导纤维的主要成分是高纯度的硅
C.硅与碳位于同一主族,性质相似,在自然界中广泛存在着游离态的硅
D.SiO2和CO2都是酸性氧化物,均可与强碱(如NaOH)溶液反应,而不与任何酸反应.

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晶体硅是一种重要的非金属材料,制备高纯硅的主要流程如图所示:

已知SiHCl3能与H2O强烈反应,生成一种可燃烧的单质气体和两种酸.请回答下列问题:
(1)写出制备粗硅的化学方程式   
(2)在生成SiHCl3的反应中,还原剂与还原产物的质量比为   
(3)整个制备过程必须控制无水无氧,若有水可能发生的反应是   
(4)下列关于硅及其化合物的叙述错误的是    (填字母代号)
A.二氧化硅晶体中硅氧原子间以共价键结合
B.用于现代通讯的光导纤维的主要成分是高纯度的硅
C.硅与碳位于同一主族,性质相似,在自然界中广泛存在着游离态的硅
D.SiO2和CO2都是酸性氧化物,均可与强碱(如NaOH)溶液反应,而不与任何酸反应.

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