(1)写出以上叙述中涉及的化学方程式：

①____________________________________________________________

②____________________________________________________________

③____________________________________________________________

④____________________________________________________________。

(2)制取甲硅烷的装置与制取__________ (填“H₂”或“O₂”)的装置相似。

(3)加入稀盐酸之前后应向密闭装置中通入氮气一会儿，其目的是__________。

(4)为研究甲硅烷的化学性质，进行了如下实验：

①将甲硅烷通入少量的硝酸银溶液中，发现有沉淀生成，后经测定知该沉淀为混合物，其中有二氧化硅。向充分反应后的溶液中滴入几滴稀盐酸，未发现有白色沉淀。向反应后的原溶液中滴入几滴碳酸钠溶液，却发现有气泡迅速放出。将甲硅烷通入硝酸银溶液中发生反应的化学方程式为___________________________________________________________________。

②制取甲硅烷后，检验装置中是否有残留的的甲硅烷的方法是__________________________。

（1）写出上述内容涉及的化学方程式。

（2）制取甲硅烷的装置与制取________（填“氧气”“氢气”或“氯气”）的装置相似。

（3）加入稀盐酸之前应向密闭装置中通入一会儿氮气，其目的是______________。

（4）收集甲硅烷气体只能采用________法，这是因为________。收集完甲硅烷气体后不能直接将导气管从水槽中取出，这是为了防止________，正确的操作方法是________________。

（5）为了研究甲硅烷的化学性质，进行如下实验：①将甲硅烷通入少量的高锰酸钾酸性溶液中，发现有二氧化锰生成，同时还生成了所有气体中最轻的气体，然后经测定得知所得溶液为无色的硅酸钾（K₂SiO₃）溶液，该反应的化学方程式为_______________________。②将甲硅烷通入少量的硝酸银溶液，发现有沉淀生成，然后经测定得知沉淀为混合物，其中有二氧化硅。向充分反应后的溶液中滴入几滴稀盐酸，未发现有白色沉淀生成；向反应后的原溶液中滴入几滴碳酸钠溶液，却发现有气泡迅速放出。则将甲硅烷通入硝酸银溶液中，发生反应的化学方程式为____________________________________。

（6）制完甲硅烷后，检验装置中是否有残留的甲硅烷的方法是_________________________。

[化学—选修3：物质结构与性质]（15分）
硅是重要的半导体材料，构成了现代电子工业的基础。请回答下列问题：
（1）基态Si原子中，电子占据的最高能层符号为       ，该能层具有的原子轨道数为        、电子数为           。
（2）硅主要以硅酸盐、           等化合物的形式存在于地壳中。
（3）单质硅存在与金刚石结构类似的晶体，其中原子与原子之间以           相结合，其晶胞中共有8个原子，其中在面心位置贡献          个原子。
（4）单质硅可通过甲硅烷（SiH₄）分解反应来制备。工业上采用Mg₂Si和NH₄Cl在液氨介质中反应制得SiH₄，该反应的化学方程式为                                     。
（5）碳和硅的有关化学键键能如下所示，简要分析和解释下列有关事实：

[化学——选修3：物质结构与性质]（15分）
硅是重要的半导体材料，构成了现代电子工业的基础。回答下列问题：
（1）基态Si原子中，电子占据的最高能层符号为____     ，该能层具有的原子轨道数为____      、电子数为           。
（2）硅主要以硅酸盐、____             等化合物的形式存在于地壳中。
（3）单质硅存在与金刚石结构类似的晶体，其中原子与原子之间以              相结合，其晶胞中共有8个原子，其中在面心位置贡献____         个原子。
（4）单质硅可通过甲硅烷（SiH₄）分解反应来制备。工业上采用Mg₂Si和NH₄C1在液氨介质中反应制得SiH₄，该反应的化学方程式为___                     。
（5）碳和硅的有关化学键键能如下所示，简要分析和解释下列有关事实：

①硅与碳同族，也有系列氢化物，但硅烷在种类和数量上都远不如烷烃多，原因是         。
②SiH₄的稳定性小于CH₄，更易生成氧化物，原因是____                              。
（6）在硅酸盐中，SiO₄^4－四面体（如下图（a））通过共用顶角氧离子可形成岛状、链状、层状、骨架网状四大类结构型式。图（b）为一种无限长单链结构的多硅酸根，其中Si原子的杂化形式为               。Si与O的原子数之比为                。

硅是重要的半导体材料，构成了现代电子工业的基础。回答下列问题：
（1）基态Si原子中，电子占据的最高能层符号       ，该能层具有的原子轨道数为      、电子数为         。
（2）硅主要以硅酸盐、       等化合物的形式存在于地壳中。
（3）单质硅存在与金刚石结构类似的晶体，其中原子与原子之间以        相结合，其晶胞中共有8个原子，其中在面心位置贡献       个原子。
（4）单质硅可通过甲硅烷(SiH₄)分解反应来制备。工业上采用Mg₂Si和NH₄CI在液氨介质中反应制得SiH₄，该反应的化学方程式为              。
（5）碳和硅的有关化学键键能如下所示，简要分析和解释下列有关事实：