14.工业上可用下列反应来制取纯硅:反应①:Si=SiHCl3(l)+H2(g) 反应②:SiHCl3(l)+H2 假设在每一轮次的投料生产中.硅元素无损失.反应①中HCl的利用率为60%.反应②中H2的利用率为80%.则下一轮次的生产中.需补充投入HCl 和H2的体积比为A. 4 ┱1 B. 8┱1 C. 2┱3 D. 3┱5第II卷(非选择题 共72分) 查看更多

 

题目列表(包括答案和解析)

高纯硅是当今科技的核心材料.工业上,用氢气还原四氯化硅制得高纯硅的反应为SiCl4(g)+2H2(g)
高温
Si(s)+4HCl(g).已知SiCl4可完全水解生成硅酸和盐酸.向容积为1L的密闭容器中充入一定量的SiCl4(g)和H2(g),分别在T1和T2温度时进行反应.SiCl4的物质的量随时间变化情况如下表所示:
时间/min 0 2 4 t1 t2
n(SiCl4)/mol
温度/℃
T1 5.0 4.5 4.2 n1 n1
T2 5.0 4.2 3.6 n2 n2
(1)T1时,反应开始的2min内,用HCl表示的反应速率为
 

(2)该反应的平衡常数表达式为:K=
 

(3)保持其他条件不变,下列措施可提高SiCl4转化率的是
 

a.充入更多的SiCl4(g)    b.充入更多的H2(g)         c.及时分离出Si(s)
d.使用催化剂           e.将容器的体积扩大一倍
(4)据上表中的数据分析:T1
 
  T2(填“>”或“<”,下同),理由是
 

已知n1>n2,△H
 
0.
(5)有同学认为,采用水淋法来吸收生成的HCl,可以提高SiCl4的转化率.该认识
 
(填“合理”或“不合理”),理由是
 

(6)将平衡后的混合气体溶于水,取少量上层清液,向其中滴加足量的AgNO3溶液,反应后过滤,取沉淀向其中加入Na2S溶液,可观察到
 

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(14分)高纯硅是当今科技的核心材料。工业上,用氢气还原四氯化硅制得高纯硅的反应为SiCl4(g)+2H2(g) Si(s)+4HCl(g) 。已知SiCl4可完全水解生成硅酸和盐酸。向容积为1L的密闭容器中充入一定量的SiCl4(g)和H2(g),分别在T1和T2温度时进行反应。SiCl4的物质的量随时间变化情况如下表所示:

(1)T1时,反应开始的2 min内,用HCl表示的反应速率为              。

(2)该反应的平衡常数表达式为:K=                           。

(3)保持其他条件不变,下列措施可提高SiCl4转化率的是            

a.充入更多的SiCl4(g)

b.充入更多的H2(g)

c.及时分离出Si(s)

d.使用催化剂

e.将容器的体积扩大一倍

(4)据上表中的数据分析:T1         T2(填“>”或“<”,下同),理由是          。已知n1>n2,ΔH        0。

(5)有同学认为,采用水淋法来吸收生成的HCl,可以提高SiCl4的转化率。该认识      (填“合理”或“不合理”),理由是                            

(6)将平衡后的混合气体溶于水,取少量上层清液,向其中滴加足 量的AgNO3溶液,反应后过滤,取沉淀向其中加入Na2S溶液,可观察到                   

 

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(14分)高纯硅是当今科技的核心材料。工业上,用氢气还原四氯化硅制得高纯硅的反应为SiCl4(g)+2H2(g) Si(s)+4HCl(g) 。已知SiCl4可完全水解生成硅酸和盐酸。向容积为1L的密闭容器中充入一定量的SiCl4(g)和H2(g),分别在T1和T2温度时进行反应。SiCl4的物质的量随时间变化情况如下表所示:

(1)T1时,反应开始的2 min内,用HCl表示的反应速率为              。

(2)该反应的平衡常数表达式为:K=                           。

(3)保持其他条件不变,下列措施可提高SiCl4转化率的是            

a.充入更多的SiCl4(g)

b.充入更多的H2(g)

c.及时分离出Si(s)

d.使用催化剂

e.将容器的体积扩大一倍

(4)据上表中的数据分析:T1         T2(填“>”或“<”,下同),理由是          。已知n1>n2,ΔH        0。

(5)有同学认为,采用水淋法来吸收生成的HCl,可以提高SiCl4的转化率。该认识      (填“合理”或“不合理”),理由是                            

(6)将平衡后的混合气体溶于水,取少量上层清液,向其中滴加足 量的AgNO3溶液,反应后过滤,取沉淀向其中加入Na2S溶液,可观察到                   

 

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(14分)高纯硅是当今科技的核心材料。工业上,用氢气还原四氯化硅制得高纯硅的反应为SiCl4(g)+2H2(g) Si(s)+4HCl(g)。已知SiCl4可完全水解生成硅酸和盐酸。向容积为1L的密闭容器中充入一定量的SiCl4(g)和H2(g),分别在T1和T2温度时进行反应。SiCl4的物质的量随时间变化情况如下表所示:

(1)T1时,反应开始的2 min内,用HCl表示的反应速率为              。
(2)该反应的平衡常数表达式为:K=                          。
(3)保持其他条件不变,下列措施可提高SiCl4转化率的是           
a.充入更多的SiCl4(g)
b.充入更多的H2(g)
c.及时分离出Si(s)
d.使用催化剂
e.将容器的体积扩大一倍
(4)据上表中的数据分析:T1        T2(填“>”或“<”,下同),理由是          。已知n1>n2,ΔH       0。
(5)有同学认为,采用水淋法来吸收生成的HCl,可以提高SiCl4的转化率。该认识     (填“合理”或“不合理”),理由是                            
(6)将平衡后的混合气体溶于水,取少量上层清液,向其中滴加足量的AgNO3溶液,反应后过滤,取沉淀向其中加入Na2S溶液,可观察到                   

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(14分)高纯硅是当今科技的核心材料。工业上,用氢气还原四氯化硅制得高纯硅的反应为SiCl4(g)+2H2(g) Si(s)+4HCl(g) 。已知SiCl4可完全水解生成硅酸和盐酸。向容积为1L的密闭容器中充入一定量的SiCl4(g)和H2(g),分别在T1和T2温度时进行反应。SiCl4的物质的量随时间变化情况如下表所示:

(1)T1时,反应开始的2 min内, 用HCl表示的反应速率为               。

(2)该反应的平衡常数表达式为:K=                           。

(3)保持其他条件不变,下列措施可提高SiCl4转化率的是            

a.充入更多的SiCl4(g)

b.充入更多的H2(g)

c.及时分离出Si(s)

d.使用催化剂

e.将容器的体积扩大一倍

(4)据上表中的数据分析:T1         T2(填“>”或“<”,下同),理由是           。已知n1>n2,ΔH        0。

(5)有同学认为,采用水淋法来吸收生成的HCl,可以提高SiCl4的转化率。该认识      (填“合理”或“不合理”),理由是                            

(6)将平衡后的混合气体溶于水,取少量上层清液,向其中滴加足 量的AgNO3溶液,反应后过滤,取沉淀向其中加入Na2S溶液,可观察到                   

 

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