(3)在电脑芯片生产领域.高分子光阻剂是光刻蚀0.11μm线宽芯片的关键技术.B分 子中 断键水解生成E.F.F就是生产这种高分子光阻剂的主要原料.F具有如下特点:①能跟FeCl3溶液发生显色反应,②能发生加聚反应,③苯环上的一氯代物只有两种.F在一定条件下发生加聚反应的化学方程式为: . (4)化合物G是F的同分异构体.它属于芳香族化合物.能发生银镜反应.G可能有 种结构.写出其中不含甲基的同分异构体的结构简式: .七. 查看更多

 

题目列表(包括答案和解析)

已知:

请根据下图回答

(1)

E中含有的官能团的名称是________;③的反应类型是________,C跟新制的氢氧化铜反应的化学方程式为:________

(2)

已知B的相对分子质量为162,其燃烧产物中n(CO2)∶n(H2O)=2∶1.则B的分子式为________,F的分子式为________.

(3)

在电脑芯片生产领域,高分子光阻剂是光刻蚀0.11 μm线宽芯片的关键技术.F是这种高分子光阻剂生产中的主要原料.F具有如下特点:①能跟FeCl3溶液发生显色反应;②能发生加聚反应;③芳环上的一氯代物只有两种.F在一定条件下发生加聚反应的化学方程式为:________

(4)

化合物G是F的同分异构体,它属于芳香族化合物,能发生银镜反应.G可能有________种结构,写出其中任意一种同分异构体的结构简式________.

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已知:
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(1)E中含有的官能团的名称是
 
;③的反应类型是
 
,C跟新制的氢氧化铜反应的化学方程式为:
 

(2)已知B的相对分子质量为162,其燃烧产物中n(CO2):n(H2O)=2:1.则B的分子式为
 
,F的分子式为
 

(3)在电脑芯片生产领域,高分子光阻剂是光刻蚀0.11μm线宽芯片的关键技术.F是这种高分子光阻剂生产中的主要原料.F具有如下特点:①能跟FeCl3溶液发生显色反应;②能发生加聚反应;③芳环上的一氯代物只有两种.F在一定条件下发生加聚反应的化学方程式为:
 

(4)化合物G是F的同分异构体,它属于芳香族化合物,能发生银镜反应.G可能有
 
种结构,写出其中任意一种同分异构体的结构简式
 

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(20分)已知一个碳原子上连有两个羟基时,易发生下列转化:

请根据下图回答问题:

(1)E中含有官能团的名称是               ;③的反应类型是            ,C跟新制的氢氧化铜反应的化学方程化为                                   

(2)已知B的相对分子质量为162,其燃烧产物中 则B的分子式为            ,F的分子式为            .

(3)在电脑芯片生产领域,高分子光阻剂是光刻蚀线宽芯片的关键技术.F是这种高分子光阻剂生产中的主要原料.F具有如下特点:①能跟溶液发生显色反应:②能发生加聚反应;③芳环上的一氯代物只有两种.

F在一定条件下发生加聚反应的化学方程式为                                    

(4)化合物G是F的同分异构体,它属于芳香族化合物,能发生银镜反应.G可能有          种结构,写出它们的结构简式                                     

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已知一个碳原子上连有两个羟基时,易发生下列转化:?

请根据下图回答。

(1)E中含有的官能团的名称是_________;③的反应类型是________,C跟新制的氢氧化铜反应的化学方程式为____________________。

(2)已知B的相对分子质量为162,其燃烧产物中?n(CO2)∶n(H2O)=2∶1。则B的分子式为_________,F的分子式为_________。

(3)在电脑芯片生产领域,高分子光阻剂是光刻蚀0?11 μm线宽芯片的关键技术。F是这种高分子光阻剂生产中的主要原料。F具有如下特点:①能跟FeCl3溶液发生显色反应;②能发生加聚反应;③芳环上的一氯代物只有两种。F在一定条件下发生加聚反应的化学方程式为__________________。?

(4)化合物G是F的同分异构体,它属于芳香族化合物,能发生银镜反应。G可能有_________种结构,写出其中任一种同分异构体的结构简式__________________。

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已知一个碳原子上连有两个羟基时,易发生下列转化:

。请根据下图完成下列问题:

(1)E中含有的官能团的名称是_____________;③的反应类型是_____________,C跟新制的氢氧化铜反应的化学方程式为________________________________________。

(2)已知B的相对分子质量为162,其燃烧产物中n(CO2)∶n(H2O)=2∶1。则B的分子式为_______________,F的分子式为_______________。

(3)在电脑芯片生产领域,高分子光阻剂是光刻蚀0.11 μm线宽芯片的关键技术。F是这种高分子光阻剂生产中的主要原料。F具有如下特点:①能跟FeCl3溶液发生显色反应;②能发生加聚反应;③芳环上的一氯代物只有两种。F在一定条件下发生加聚反应的化学方程式为____________________________________________________________。

(4)化合物G是F的同分异构体,它属于芳香族化合物,能发生银镜反应。G可能有____________种结构,写出其中任一种同分异构体的结构简式_________________________。

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第Ⅰ卷 (共66分)

一、(本题共10分)

1.B        2.A         3.D        4.C     5.D

二、(本题共36分)

6.A  7.C  8.D  9.B  10.B  11.D  12.C  13.A  14.B  15.D  16.C  17.B

三、(本题共20分)

18.A、B    19.C、D    20.A、B    21.C    22.A、D

四、(本题共24分)

23.(本题共8分)

   (1)氢(1分)

   (2)第二周期、ⅣA(1分)1s22s22p63s23p5(各1分)

   (3)Cl(1分)

   (4)B、C(2分)

   (5)B、D(2分)

24.(本题共8分)

   (1)+2Sn,Fe2(SO4)3(各1分)

6ec8aac122bd4f6e   (2)SnCl2→SnCl4(各1分)

 

   (3)

 

   (4)2:1(2分)

25.(本题共8分)

   (1)6ec8aac122bd4f6e(1分)

   (2)放热(1分)

   (3)逆  增大  增大 不变(各1分)

   (4)B、C(2分)

五、(本题共24分)

26.(本题共14分)

   (1)储液瓶(B瓶)内导管中液面会上升,观察上升液面在1分钟内明显下降(2分)

   (2)品红(1分)Mg+2H+→Mg2++H2↑(2分)

   (3)① 106.5(1分)  ② 25.5(2分)   ③ 4.08%(1分)   ④ C(1分)

   (4)① ②(2分)    0.243(106.5―VB)(1―a%)(2分)

27.(本题共10分)

   (1)A、C(2分)

   (2)除去AlO2杂质(1分)

   (3)2CrO42-+2H+→Cr2O72-+H2O(2分)

   (4)① 将混合物放入烧杯中,加水,充分搅拌直到固体不再溶解。(2分)

    ② 蒸发(1分)   ④ 冷却,结晶(2分)

六、(本题共20分)

28.(本题共9分)

   (1)醛基(酚)羟基 醚键(2分)

   (2)(a)取代反应(1分)

6ec8aac122bd4f6e
 

   (b)

6ec8aac122bd4f6e

 

 

   (3)                                             (1分+1分+2分)

 

29.(本题共11分)

   (1)羧基(1分)     氧化反应(1分)

6ec8aac122bd4f6e       CH3CHO+2Cu(OH) 2     CH3COOH+Cu2O↓+2H2O(2分)

6ec8aac122bd4f6e   (2)C10H10O2(2分)

6ec8aac122bd4f6e
 

   (3)

6ec8aac122bd4f6e
 

                                                                                                      (2分)

   (4)四(2分);                  (1分)

七、(本题共16分)

30.(本题共7分)

   (1)6ec8aac122bd4f6e(2分);

   (2)0.43(或43%)(2分)

   (3)6ec8aac122bd4f6e(3分)

31.(本题共9分)

   (1)NaOH                1.50×10-3mol           Na2CO3  5.00×10-4mol(2分)

   (2)8.00mL(2分)

   (3)0.201mg CO2/(g?h)(3分)

 

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