3.下列物质肯定为纯净物的是 ( ) A.只有一种元素组成的物质 B.只有一种原子构成的物质 C.只有一种分子构成的物质 D.只有一种元素的阳离子与另一种元素的阴离子构成的物质 查看更多

 

题目列表(包括答案和解析)

气体A只含X、Y两种短周期元素,X的原子序数大于Y的原子序数.常温下B、D、E是常见气体,C是液体.各物质有如下图所示的转化关系.

试回答下列问题:

(1)

若气体A是纯净物,且A分子的空间构型为直线型,则A的电子式为________

(2)

若气体A是混合气体,且X与Y的质量比小于3,则气体A中肯定有________(写化学式).

(3)

若F与C在一定条件下还可以生成固体乙和气体E,请写出该反应的化学方程式________

(4)

C与固体甲在高温下反应的化学方程式为________

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(2009?泰州模拟)高纯超净特种气体主要用于制造半导体器件、化合物半导体、激光器、光导纤维、太阳能电池等.超纯硅化氢制备方法如下:(已知:常温下SiH4难溶于水,与稀硫酸不反应,乙醚沸点34.6℃)
①由下列两种方法制得SiH4
方法一:Mg2Si+4NH4Cl
液氨
SiH4+2MgCl2+4NH3
方法二:LiAlH4+SiCl4
C2H5OC2H5
SiH4+AlCl3+LiCl
②除去SiH4中混有的杂质气体
请回答下列问题:
(1)对方法一的理解,有同学认为是NH4+水解产生H+,Mg2Si与H+反应生成SiH4,你认为该观点是否正确?并简述理由
不正确,因为该反应在液氨中进行,非水体系,不会水解
不正确,因为该反应在液氨中进行,非水体系,不会水解

(2)将方法二的固体产物溶于水,只有一种物质能促进水的电离,则NaOH、Mg(OH)2、LiOH碱性由强到弱的顺序为
NaOH>LiOH>Mg(OH)2
NaOH>LiOH>Mg(OH)2

(3)两种方法制得的SiH4中均含有少量杂质,有同学提出用下列方法除去SiH4中的杂质,其中肯定不可行是
b
b

a.用稀硫酸洗气     b.高温使杂质分解      c.低温分馏
(4)甲、乙、丙三同学在讨论SiH4制备方法的化学反应类型时发表如下观点,你认为正确的是
bc
bc

a.甲同学认为两个反应均为氧化还原反应
b.乙同学认为两个反应中只有一个属于氧化还原反应
c.丙同学认为要判断是否属于氧化还原反应,还需要知道SiH4中各元素具体的化合价.

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