6．工业制造金刚砂(SiC)的化学方程式如下：SiO₂ + 3C ====== SiC + 2CO 。在这个氧化还原反应中，氧化剂和还原剂的物质的量之比是(　　)

　A．1:2　　　 B．2:1　　　 C．1:1　　　 D．3:5

　①Si(s) + 3HCI(g)　 =======　 SiHCI₃(g) + H₂(g)　 △H₁ = －38.1KJ/mol

分析上述反应，推断下列说法正确的是(　　)

　A．①和②均属置换反应　B．①和②互为可逆反应

C．△H₂＞O　　　　D．反应中硅单质是催化剂，因为其质量和性质不变

5．下列物质中，没有固定熔沸点的是(　　)

　A．石英　　B．Na₂SiO₃C．固体SO₃　D．玻璃

4．光纤通信是一种现代的通信手段，光纤是光导纤维的简称，制造光导纤维的主要原料是

　A．铜　　 B．铝　　　 C．石英砂　　　 D．水玻璃

3．下列关于硅的说法中不正确的是(　　)

　A．硅是非金属元素，它的单质是灰黑色有金属光泽的固体

B．硅的导电性能介于金属和绝缘体之间，是良好的半导体材料

C．硅的化学性质不活泼，常温下不与任何物质反应

D．加热到一定温度时，硅能与氢气、氧气等反应

2．下列溶液可以盛放在玻璃瓶中，但不能用玻璃塞的是(　　)

　A．硅酸钠溶液　B．氢氟酸　C．氢氧化钠溶液　　D．氯化钠溶液

1．在实验室下列物质不与晶体硅反应的是(　　 )

　 A．F₂ 　　B．HF　　 C．KOH溶液　　　　 D．CI₂

[典型例题]

1．(08广东卷)

硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：

(1)　　　 制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl₃)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：

①写出由纯SiHCl₃制备高纯硅的化学反应方程式　　。

②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式　　；H₂还原SihCl₃过程中若混0₂，可能引起的后果是　　　　 。

(2)下列有头硅材料的详法正确的是　　　 (填字母)。

A．碳化硅化学性质稳定，可用于生产耐高温水混

B．氮化硅硬度大、熔点高，可用于制作高温陶瓷和轴承

C．普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂的，其熔点很高

D．盐酸可以与硅反应，故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中，逐滴加入饱和氯化铵溶液，振荡。写出实验现象并给予解释　　。

(1) ①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式:

SiHCl₃+H₂==(1357K)== Si+3HCl

②SiHCl₃遇水剧烈反应生成H₂SiO₃、HCl和另一种物质，写出配平的化学反应方程式3SiHCl₃+3H₂O===H₂SiO₃+H₂↑+3HCl;H₂还原SiHCl₃过程中若混入O₂，可能引起的后果是：高温下，H₂遇O₂发生爆炸。

(2)ABCD

解释：SiC和Si₃N₄均为原子晶体，熔点高，性质稳定，AB正确。光导纤维的材料为SiO₂，C正确。普通玻璃的主要成分为Na₂SiO₃和CaSiO₃，它是以石英砂(SiO₂)、石灰石(CaCO₃)和纯碱(Na₂CO₃)为主要原料反应制成的。Na₂CO₃+SiO₂==(高温)==Na₂SiO₃+CO₂；CaCO₃+SiO₂==(高温)==CaSiO₃+CO₂，D正确。常温下，Si只能与唯一一种酸HF反应不与HCl反应，E错。

(3)写出实验现象并给予解释：生成白色絮状沉淀，又刺激性气味的气体生成；SiO₃^2-与NH₄⁺发生双水解反应，SiO₃^2- + 2 NH₄⁺ + 2H₂O === 2NH₃·H₂O + H₂SiO₃↓。

[基础训练]

2、硅酸盐常表示成氧化物的形式：金属氧化物·SiO₂·H₂O。例如Na₂SiO₃可表示为Na₂O·SiO₂；高岭石[AI₂(Si₂O₅)(OH)₄]可表示为　　　　　　　　 ；正长石(KAISi₃O₈)可表示为　　　 　　　　　　　　。

1、硅酸钠水溶液俗称　　　　 ，在空气中会变质：　　　　　　　　　　　　 　。