0  57410  57418  57424  57428  57434  57436  57440  57446  57448  57454  57460  57464  57466  57470  57476  57478  57484  57488  57490  57494  57496  57500  57502  57504  57505  57506  57508  57509  57510  57512  57514  57518  57520  57524  57526  57530  57536  57538  57544  57548  57550  57554  57560  57566  57568  57574  57578  57580  57586  57590  57596  57604  447090 

0.008

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0.010

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0.020

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18. (10分)在2 L密闭容器内,800 ℃时反应2NO(g)+O2(g)2NO2(g)体系中,n(NO)随时间的变化如表:

时间/s

0

1

2

3

4

5

n(NO)/mol

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①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式____________________________。

②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式_________________;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是_________________________。

(2)下列有关硅材料的说法正确的是__________________(填字母)。

A.碳化硅化学性质稳定,可用于生产耐高温水泥

B.氮化硅硬度大、熔点高,可用于制作高温陶瓷和轴承

C.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料――光导纤维

D.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高

E.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅

(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入饱和氯化铵溶液,振荡。写出实验现象并给予解释_______________________________。

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17.(13分)硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:

(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

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16. (11分)在2008年初我国南方遭遇的冰雪灾害中,使用了一种融雪剂,其主要成分的化学式为XY2,X、Y均为周期表前20号元素,其阳离子和阴离子的电子层结构相同,且1 mol XY2含有54 mol电子。

(1)该融雪剂的化学式是__________;X与氢元素形成的化合物的电子式是_____________。

(2)元素D、E原子的最外层电子数是其电子层数的2倍,D与Y相邻,则D的离子结构示意图是________________;D与E能形成一种非极性分子,该分子的结构式为________________;D所在族元素的氢化物中,沸点最低的是_________________________。

(3)元素W与Y同周期,其单质是原子晶体;元素Z的单质分子Z2中有3个共价键;W与Z能形成一种新型无机非金属材料,其化学式是___________________________________。

(4)元素R与Y同主族,其氢化物能用于刻蚀玻璃,R2与NaOH溶液反应的产物之一是OR2,该反应的离子方程式为___________________  _______________________________。

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15.下列四种溶液:①pH=2的CH3COOH溶液;②pH=2的HCl溶液;③pH=12的氨水;④pH=12的NaOH溶液。相同条件下,有关上述溶液的比较中,正确的(    )

    A.由水电离的c(H):①=②>③=④

    B.将②、③两种溶液混合后,若pH=7,则消耗溶液的体积:②>③

    C.等体积的①、②、④溶液分别与足量铝粉反应,生成H2的量:②最大

    D.向等体积的四种溶液中分别加入100mL水后,溶液的pH:③>④>①>②

20080901

20080901

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A.4-3-1-2          B.1-2-3-4           C.3-4-2-1         D.1-2-4-3

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2.5

30

粉末状

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