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    单晶硅是制作电子集成电路的基础材料，工业上通过以下反应将自然界中的二氧化硅（Si02）转化成硅（Si）：Si02+2c
     高温 
    .
     
    si+2C0↑，下列分析正确的是（　　）
    A．碳表现出了还原性
    B．碳发生了还原反应
    C．二氧化硅发生了氧化反应
    D．该反应是分解反应
    A
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    科目：初中化学 来源： 题型：

    单晶硅是制作电子集成电路的基础材料，工业上通过以下反应将自然界中的二氧化硅（Si02）转化成硅（Si）：Si02+2c
     高温 
    .
     
    si+2C0↑，下列分析正确的是（　　）

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    科目：初中化学 来源：不详 题型：单选题

    单晶硅是制作电子集成电路的基础材料，工业上通过以下反应将自然界中的二氧化硅（Si02）转化成硅（Si）：Si02+2c
     高温 
    .
     
    si+2C0↑，下列分析正确的是（　　）
    A．碳表现出了还原性
    B．碳发生了还原反应
    C．二氧化硅发生了氧化反应
    D．该反应是分解反应

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    科目：初中化学 来源：新人教版九年级上册《第6章 碳和碳的化合物》2013年单元检测训练卷B（一）（解析版） 题型：选择题

    单晶硅是制作电子集成电路的基础材料，工业上通过以下反应将自然界中的二氧化硅（Si02）转化成硅（Si）：Si02+2csi+2C0↑，下列分析正确的是（ ）
    A．碳表现出了还原性
    B．碳发生了还原反应
    C．二氧化硅发生了氧化反应
    D．该反应是分解反应

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    科目：初中化学 来源： 题型：单选题

    单晶硅是制作电子集成电路的基础材料，工业上通过以下反应将自然界中的二氧化硅（SiO2）转化成硅（Si）：SiO2+2c数学公式si+2CO↑，下列分析正确的是


    1. A.
      碳表现出了还原性
    2. B.
      碳发生了还原反应
    3. C.
      二氧化硅发生了氧化反应
    4. D.
      该反应是分解反应

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    科目：初中化学 来源：南京 题型：单选题

    单晶硅是制作电子集成电路的基础材料．工业上通过以下反应将自然界的二氧化硅（SiO2）转化为硅：SiO2+2C═Si+2CO↑，下列分析正确的是（　　）
    A．二氧化硅发生了氧化反应
    B．碳发生了还原反应
    C．该反应属于复分解反应
    D．该反应属于置换反应

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    科目：初中化学 来源：2010-2011学年江西省景德镇市乐平中学九年级（上）期末化学试卷（解析版） 题型：选择题

    单晶硅是制作电子集成电路的基础材料．工业上通过以下反应将自然界的二氧化硅（SiO2）转化为硅：SiO2+2C═Si+2CO↑，下列分析正确的是（ ）
    A．二氧化硅发生了氧化反应
    B．碳发生了还原反应
    C．该反应属于复分解反应
    D．该反应属于置换反应

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    科目：初中化学 来源：2010-2011学年安徽省滁州市明光三中九年级（上）第三次月考化学试卷（解析版） 题型：选择题

    单晶硅是制作电子集成电路的基础材料．工业上通过以下反应将自然界的二氧化硅（SiO2）转化为硅：SiO2+2C═Si+2CO↑，下列分析正确的是（ ）
    A．二氧化硅发生了氧化反应
    B．碳发生了还原反应
    C．该反应属于复分解反应
    D．该反应属于置换反应

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    科目：初中化学 来源：2013年4月中考化学模拟试卷（14）（解析版） 题型：选择题

    单晶硅是制作电子集成电路的基础材料．工业上通过以下反应将自然界的二氧化硅（SiO2）转化为硅：2C+SiO2Si+2CO↑，下列分析正确的是（ ）
    A．二氧化硅发生了氧化反应
    B．碳发生了还原反应
    C．一氧化碳作还原剂
    D．二氧化硅作氧化剂

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    科目：初中化学 来源：2012年北京市顺义区中考化学二模试卷（解析版） 题型：选择题

    单晶硅是制作电子集成电路的基础材料．工业上通过以下反应将自然界的二氧化硅（SiO2）转化为硅：SiO2+2CSi+2CO↑，该反应属于（ ）
    A．化合反应
    B．分解反应
    C．复分解反应
    D．置换反应

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    科目：初中化学 来源：2012年上海市奉贤区中考化学二模试卷（解析版） 题型：选择题

    单晶硅是制作电子集成电路的基础材料．工业上通过以下反应将自然界的二氧化硅（SiO2）转化为硅：2C+SiO2Si+2CO↑，下列分析正确的是（ ）
    A．二氧化硅发生了氧化反应
    B．碳发生了还原反应
    C．一氧化碳作还原剂
    D．二氧化硅作氧化剂

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